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化学还原法制备纳米铜粉的研究

黄钧声 , 任山 , 谢成文

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2003.01.016

本文采用KBH4在液相中化学还原CuSO4,并加入KOH和络合剂E D T A,制得了纳米级的纯净的铜粉,通过调整反应物的浓度,可以消除Cu2O等杂质.制备的纳米铜粉还存在一定程度的团聚,需试验加入分散剂来改善.

关键词: 纳米 , 铜粉 , 化学还原法 , 制备