孙德魁
,
刘振宇
,
贵国庆
,
黄张根
,
刘清雅
,
肖勇
催化学报
doi:10.3724/SP.J.1088.2010.90544
采用程序升温脱附、在线质谱和原位漫反射红外光谱等手段,比较了NO和NO_2在V_2O_5及V_2O_5/AC催化剂表而的选择催化还原(SCR)反应行为.结果表明,氨以质子态NH_4~+和共价态NH_3分子两种形态吸附于纯V_2O_5表面,V=O为氨的主要吸附活性位.无氧状态下,NO和NO_2皆可与吸附于V_2O_5表面的NH_3反应,并且NO_2与吸附态NH_2的反应活性高于NO.但在V_2O_5/AC催化剂表面,同样在无氧条件下,NO几乎不与吸附态NH_3反应,而NO_2却可以反应并生成N_2.在V_2O_5/AC表面,NO很容易被气相O_2氧化为NO_2,然后参与SCR反应.可见,NO_2是NO在V_2O_5/AC表面发生SCR反应的中间体.
关键词:
五氧化二钒
,
活性炭
,
氮氧化物
,
氨
,
选择性催化还原
