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检索条件:作者=贺剑雄  

  • 论文(6)

AlSb多晶薄膜的制备及性质

贺剑雄 , 武莉莉 , 夏庚培 , 郑家贵 , 冯良桓 , 雷智 , 李卫 , 张静全 , 黎兵

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2010.01.003

用磁控溅射法制备了Al/Sb多层薄膜,通过X射线衍射(XRD)、X射线荧光(XRF)、Hall效应、暗电导率温度关系及透过谱的测试研究了退火前后薄膜的结构和性质.XRD测试结果表明,刚沉积的薄膜只有Sb的结晶相,而Al则以非晶态形式存在,500℃退火后化合为AlSb多晶,且沿(111)择优取向.Ha...

关键词: AlSb , 薄膜 , 磁控溅射法 , 退火

AlSb多晶薄膜的制备及其潮解性研究

贺剑雄 , 武莉莉 , 郑家贵 , 夏庚培 , 冯良桓 , 张静全 , 李卫 , 黎兵

功能材料

采用磁控溅射法制备了Al-Sb多层薄膜,通过调节Al和Sb亚层厚度及层数改变原子配比,并在真空中退火.用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、金相显微镜、Hall测试及俄歇电子能谱仪研究了薄膜的结构和性能.结果表明,刚沉积的薄膜只有Sb的结晶相,经500℃退火后化合为P型AlSb多晶薄膜,...

关键词: AlSb , 薄膜 , 退火 , 磁控溅射法

AlSb多晶薄膜材料的性能研究

宋慧瑾 , 贺剑雄 , 武莉莉 , 郑家贵 , 冯良桓 , 雷智

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2009.00517

采用共蒸法制备了新型AlSb多晶薄膜. 通过XRF、XRD、Hall测试及电导率温度关系等研究了AlSb多晶薄膜的组分、结构及性能. 分析表明,刚沉积的AlSb薄膜为非晶相,在540℃以上退火转变为AlSb相,转变的程度取决于退火的温度及Al、Sb的原子配比...

关键词: AlSb , anneal , polycrystalline thin film , co-evaporation

退火对Al-Sb多层薄膜的影响

贺剑雄 , 武莉莉 , 郝霞 , 郑家贵 , 冯良桓 , 张静全

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.00027

采用直流磁控溅射法制备Al和Sb交替层,在真空环境下进行高温退火后得到了AlSb多晶薄膜. 通过X射线衍射(XRD)、霍尔效应、暗电导率温度关系以及透反射光谱研究了薄膜的结构、电学和光学性质. 结果表明,退火后形成的AlSb多晶薄膜呈立方相,沿(111)择优...

关键词: Al-Sb薄膜 , magnetron sputtering , anneal

退火对Al-Sb多层薄膜的影响

贺剑雄 , 武莉莉 , 郝霞 , 郑家贵 , 冯良桓 , 张静全

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.00027

采用直流磁控溅射法制备Al和Sb交替层,在真空环境下进行高温退火后得到了AlSb多晶薄膜.通过X射线衍射(XRD)、霍尔效应、暗电导率温度关系以及透反射光谱研究了薄膜的结构、电学和光学性质.结果表明,退火后形成的AlSb多晶薄膜呈立方相,沿(111)择优取向,且导电类型是P型,载流子浓度为1019c...

关键词: Al-Sb薄膜 , 磁控溅射法 , 退火

AlSb多晶薄膜材料的性能研究

宋慧瑾 , 贺剑雄 , 武莉莉 , 郑家贵 , 冯良桓 , 雷智

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2009.00517

采用共蒸法制备了新型AlSb多晶薄膜. 通过XRF、XRD、Hall测试及电导率温度关系等研究了AlSb多晶薄膜的组分、结构及性能. 分析表明,刚沉积的AlSb薄膜为非晶相,在540℃以上退火转变为AlSb相,转变的程度取决于退火的温度及Al、Sb的原子配比,其中NAl ∶ NSb为47.2 ∶ 5...

关键词: AlSb , 退火 , 多晶薄膜 , 共蒸发