贾绍辉
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张淮凌
,
孙徐兴
,
刘涌
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韩高荣
材料科学与工程学报
低辐射玻璃要求具有低的辐射率和高的可见光透射比.目前较为常见的单银高透Low-E产品具有优良的采光和隔热性能,但是膜层机械性能普遍较差,对于玻璃深加工厂的加工设备要求高.通过对单银高透Low-E表面覆层Si3N4薄膜进行特定比例的掺氧处理,形成Si3NxOy层,改变了膜层表面的特性,增强了其加工的机械性和稳定性,显著提升了单银高透Low-E产品的可加工性.表层改性对于提升单银高透Low-E产品性能,推进其在节能建筑领域的广泛应用具有重要意义.
关键词:
Low-E
,
氮化硅
,
氧掺杂
宋淑梅
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宋玉厚
,
杨田林
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贾绍辉
,
辛艳青
,
李延辉
人工晶体学报
采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备出了具有不同厚度ITO同质缓冲层的ITO薄膜.利用X射线衍射、半导体特性测试仪、紫外-可见光分光光度计等测试了薄膜的特性.结果表明:与单层ITO薄膜相比,具有厚度16nm ITO同质缓冲层的ITO薄膜的电阻率下降了30％,薄膜的电阻率达到2.65×10-4 Ω·cm,可见光范围内的平均透过率为91.5％.
关键词:
ITO
,
同质缓冲层
,
电阻率
,
透过率
