龚晓钟
,
汤皎宁
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李均钦
,
周莉
,
张宇
,
辛亚飞
材料工程
doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2007.01.009
研究室温下在熔盐体系中用电沉积方法于铜基体上沉积单一金属钆,分析了沉积液中主盐的含量、电流密度、电沉积时间及沉积液的pH值选择等工艺参数对沉积薄膜的形貌和金属Gd含量的影响.经X射线能谱仪(EDS)测定,其中Gd的质量分数为93.56%;经扫描电子显微镜(SEM)观察所得沉积薄膜为均匀、光滑、致密的银白色沉积膜;经X射线衍射仪(XRD)分析,所得沉积薄膜的晶体结构为立方晶;通过X射线光电子能谱仪(XPS)对沉积薄膜表面价态分析,证明所得沉积薄膜为单一稀土金属钆.用聚乙烯醇保护膜涂覆可以使稀土沉积薄膜免于氧化.
关键词:
金属材料
,
稀土元素
,
单质钆
,
非水体系
,
电沉积
