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FeNiCrSiB淬态薄带的几何尺寸对巨磁阻抗效应的影响

邵先亦 , 陈卫平 , 吴赟 , 赵先锐 , 胡犇

金属功能材料

研究了FeNiCrSiB淬态薄带的几何尺寸对其巨磁阻抗(GMI)效应的影响.研究结果表明:淬态FeNiCrSiB软磁合金薄带便具有良好的软磁性能和巨磁阻抗效应.薄带的几何尺寸为2.0mm×20mm(宽2.0mm,长20mm)时存在最佳巨磁阻抗效应,在4.0 MHz频率下,纵向最大GMI比为25%,横向最大GMI比为20%.研究结果还表明具有最佳几何尺寸样品的磁电抗比和磁容抗比的绝对值随外加直流磁场的变化规律相类似,样品的电抗部分呈电容性特征.

关键词: 巨磁阻抗效应 , FeNiCrSiB淬态薄带 , 几何尺寸

磁场沉积态FeCuCrVSiB薄膜的软磁特性和巨磁阻抗效应

陈卫平 , 冯尚申 , 邵先亦 , 萧淑琴 , 刘宜华

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2009.05.017

采用射频溅射法,在无磁场和施加72 kA/m的纵向磁场下制备了FeCuCrVSiB软磁合金薄膜样品,对沉积态样品的软磁特性和巨磁阻抗(GMI)效应进行了测量和分析.结果表明,在制备过程中加磁场可明显改善材料的软磁性能,与无磁场沉积态相比,样品的矫顽力从1.080 kA/m降低到0.064 kA/m,在13 MHz频率下有效磁导率比从10%增加到106%.GMI效应与磁导率比的大小密切相关.无磁场沉积态样品没有检测到GMI效应,而磁场沉积态样品则具有显著的GMI效应.在13 MHz的频率下,最大纵向和横向巨磁阻抗比分别高达22%和20%.这些结果都优于厚度几乎相同的退火态FeCuNbSiB薄膜的GMI特性.

关键词: FeCuCrVSiB薄膜 , 巨磁阻抗效应 , 软磁特性

电子束沉积TiAl合金的微观形貌及组织结构稳定性

马李 , 何录菊 , 邵先亦 , 王古平 , 张梦贤

材料工程 doi:10.11868/j.issn.1001-4381.2016.01.014

利用大功率电子束物理气相沉积设备,采用单靶蒸镀方法制备厚度为0.3mm的自由态TiAl合金板,并对制备态样品进行不同温度(650~950℃)的真空退火处理.借助X射线衍射仪、扫描电子显微镜及透射电子显微镜分析退火处理对相组成及微观组织结构的影响.结果表明:Ti,Al元素饱和蒸气压的差异导致富Ti成分区和富Al成分区沿板材截面呈现交替变化,其组成相为α2-Ti3 Al,γ-TiAl和τ-TiAl2;在650~950℃温度区间退火24h后,由于Al向Ti中扩散,呈现明显的界面融混和晶粒粗化,导致有序相含量的降低,其层状结构的退化受到孔洞形成、晶粒长大以及层间吞噬的影响.

关键词: 电子束物理气相沉积 , TiAl合金 , 饱和蒸气压 , 微观形貌 , 结构稳定性

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