周忠伟
,
李民
,
徐苗
,
邹建华
,
王磊
,
彭俊彪
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20163106.0532
原子层沉积(ALD)方法可以制备出高质量薄膜，被认为是可应用于柔性有机电致发光器件(OLED)最有发展前景的薄膜封装技术之一.本文采用原子层沉积(ALD)技术，在低温(80℃)下，研究了 Al2 O3及TiO2薄膜的生长规律，通过钙膜水汽透过率(WVTR)、薄膜接触角测试等手段，研究了不同堆叠结构的多层 Al2 O3/TiO2复合封装薄膜的水汽阻隔特性，其中5 nm/5 nm×8 dyads(重复堆叠次数)的Al2 O3/TiO2叠层结构薄膜的WVTR达到2．1×10-5 g/m2/day.采用优化后的 Al2 O3/TiO2叠层结构薄膜对 OLED器件进行封装，实验发现封装后的 OLED 器件在高温高湿条件下展现了较好的寿命特性.
关键词:
有机电致发光器件
,
薄膜封装
,
原子层沉积
,
水汽透过率
