王森林
,
孙永国
,
郑一雄
,
吴辉煌
材料保护
doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2002.10.008
采用硼酸为缓冲剂,柠檬酸钠为络合剂化学镀Ni-Co-P合金.考察了镀液pH值、钴离子浓度和温度对化学镀Ni-Co-P沉积速度的影响;研究了钴离子浓度对镀层组成的影响,获得了化学镀Ni-Co-P合金的最佳工艺条件为:镀液pH值为7.0,操作温度90 ℃,CoSO-4*7H-2O浓度为11 g/L.此工艺下镀液稳定性好,镀层沉积速度快;所得镀层为非晶结构.
关键词:
化学镀
,
Ni-Co-P
,
工艺条件
胡光辉
,
吴辉煌
,
杨防祖
,
郑一雄
,
王森林
应用化学
doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2003.11.002
研究了添加剂LaCl3和Fe2(SO4)3对化学镀Ni-W-P沉积速度、镀层组成结构和表面形貌的影响.结果表明,三氯化镧质量浓度为1～10 m/L时化学镀Ni-W-P沉积速度提高,而大于10 m/L时沉积速度随浓度增加而降低,使Ni-W-P镀层中的W含量降低,镀层颗粒尺寸减小.而硫酸铁提高沉积速度、降低镀层中的P含量,但对镀层结构和颗粒尺寸影响不大.能量分散谱(EDS)分析镀层成分的结果表明,稀土镧是非消耗性的添加剂,而硫酸铁是消耗性的添加剂,后者由于在基体表面共沉积,形成化学镀的催化活性中心,从而促进了化学镀过程.
关键词:
三氯化镧
,
硫酸铁
,
化学镀
,
Ni-W-P非晶沉积
郑一雄
,
姚士冰
,
周绍民
应用化学
doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2008.02.021
在W/O型反相微乳液体系中,以KBH4为还原剂制得近乎单分散的Ni-La-B非晶态合金纳米团簇. 采用扫描电子显微镜、透射电子显微镜、X射线衍射、差示扫描量热仪和X射线光电子能谱(XPS)等测试技术对样品进行了表征. 结果表明,团簇呈球形,尺寸为10～15 nm,分布较均匀,基本呈单分散. 升温速率为20 K/min时,DSC曲线在657.6和724.3 K处出现2个强放热峰,其晶化温度明显高于水溶液体系以KBH4为还原剂制备的Ni-B非晶态合金纳米颗粒,表明样品具有良好的热稳定性. X射线衍射测试鉴识出DSC曲线揭示的2个相转变过程,Ni-La-B非晶态合金晶化成Ni-La-B晶态合金和Ni-La-B晶态合金转化成纳米晶Ni-La和单质B. 相转变活化能的测定表明,后1个晶态合金的相转变过程的速率比前1个非晶态合金的快.
关键词:
Ni-La-B非晶态合金
,
微乳液
,
纳米团簇
,
晶化
,
单分散
