苏亚东
,
王向明
,
王华明
,
郑伟涛
功能材料
利用磁控溅射法制备了TiC/α-C∶H纳米复合涂层尺寸效应,并对涂层择优取向的影响进行了研究。通过改变涂层中的C含量来调节晶粒尺寸,发现晶粒尺寸对晶粒的择优取向有着重要影响。随着晶粒尺寸减小,TiC的择优取向从面心立方（111）向（200）转变。这种择优取向的尺寸依赖效应可以用热力学来解释。通过计算...
关键词:
TiC/α-C∶H纳米复合薄膜
,
尺寸效应
,
择优取向
李永华
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孟繁玲
,
高忠民
,
郑伟涛
,
王煜明
稀有金属材料与工程
用磁控溅射法将NiTi薄膜沉积在纯Cu箔片上,在800℃分别固溶30 min,45 min,60min和120 min;采用X射线傅氏线形分析法计算各固溶时间的位错密度及位错分布参量.随固溶时间的增加,平均位错密度不断下降;亚晶粒尺寸D逐渐增加;平均位错分布参量基本不变.由位错密度及位错分布参量计算...
关键词:
NiTi薄膜
,
位错密度
,
X射线傅氏线形分析
,
固溶处理
李永华
,
纪红
,
孟繁玲
,
邱利霞
,
郑伟涛
,
王煜明
材料科学与工艺
doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2003.03.008
将采用直流磁控溅射方法制备的NiTi薄膜沉积在热的衬底上,应用X射线散射和小角X射线散射技术研究了NiTi合金薄膜中生成的晶化粒子的界面特征和晶粒大小.结果表明:衬底加热可降低薄膜的晶化温度,衬底温度在350℃以上,溅射的NiTi薄膜已部分晶化;衬底温度在350、370℃和420℃溅射的NiTi薄膜...
关键词:
NiTi薄膜
,
晶化粒子
,
小角X射线散射
胡超权
,
王笑夷
,
陈红
,
朱嘉琦
,
韩杰才
,
郑伟涛
液晶与显示
doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2010.04.011
利用磁控溅射制备碳化锗(Ge1-xCx)薄膜,系统地研究了生长温度(Tg)对所获薄膜成分及性能的影响并揭示了它们之间的内在关系.研究发现所有Ge1-xCx薄膜样品均为非晶结构,随着Tg从60℃增加到500℃,膜中锗含量增加,而碳含量相对降低,这种成分的改变增加了膜中组成原子的平均质量,进而导致薄膜折...
关键词:
生长温度
,
碳化锗
,
性能
