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检索条件:作者=郑有炓  

  • 论文(22)

MOCVD生长InxGa1-Xn薄膜的表征

李亮 , 张荣 , 谢自力 , 张禹 , 修向前 , 刘成祥 , 毕朝霞 , 陈琳 , 刘斌 , 俞慧强 , 韩平 , 顾书林 , 施毅 , 郑有炓

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2005.06.028

本文利用MOCVD方法在(0001)取向的蓝宝石衬底上实现了不同生工艺条件下的InxGa-xN薄膜的制备,并通过XRD、SEM、AFM等测量分析方法系统研究了生长工艺参数对InxGa1-xN薄膜的组分和性质的影响.InxGa1-xN薄膜的制备包括蓝宝石衬底表面上GaN缓冲层的生长以及缓冲层上InxG...

关键词: MOCVD , InxGa1-xN , 薄膜 , 缓冲层

在MOCVD系统中用预淀积In纳米点低温下合成生长InN

谢自力 , 张荣 , 修向前 , 毕朝霞 , 刘斌 , 濮林 , 陈敦军 , 韩平 , 顾书林 , 江若琏 , 朱顺明 , 赵红 , 施毅 , 郑有炓

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2005.06.014

利用低压金属有机化学气相淀积(LP-MOCVD)系统,在(0001)蓝宝石衬底上采用预淀积In纳米点技术低温合成制备了立方相的InN薄膜.首先以TMIn作源在蓝宝石衬底表面预淀积了一层金属In纳米点,然后在一定条件下合成生长InN薄膜.X射线衍射谱(XRD)和X射线光电子发射谱(XPS)显示适当的预...

关键词: InN , 预淀积In纳米点 , MOCVD

AlN/Si(100)上CVD SiC薄膜的光致发光谱

秦臻 , 韩平 , 韩甜甜 , 鄢波 , 李志兵 , 谢自力 , 朱顺明 , 符凯 , 刘成祥 , 王荣华 , 李云菲 , 顾书林 , 张荣 , 郑有炓

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2005.06.030

本工作用化学气相淀积方法在AlN/Si(100)复合衬底上生长SiC薄膜.外延生长过程中,采用C4H4和SiH4作为反应气源,H2作为载气.样品的X-射线衍射谱和拉曼散射谱显示,所得到的外延层为六角对称的SiC薄膜.俄歇电子能谱及X-射线光电子能谱的测量结果表明,在外延膜中存在来自衬底的Al和N元素...

关键词: CVD , 4H-SiC , 光致发光

阳极多孔氧化铝的斜孔形成过程及机理

于治国 , 刘荣海 , 周建军 , 赵红 , 华雪梅 , 刘斌 , 谢自力 , 修向前 , 宋雪云 , 陈鹏 , 韩平 , 张荣 , 郑有炓

功能材料

研究了在草酸、磷酸不同电压条件下,阳极氧化铝(AAO)的孔结构特点.在较高电压下(60~120V),孔发生倾斜,并随电压的增大而加剧.通过建立与阻挡层/金属界面的应力有关的流模型对这一现象进行解释,并发现孔倾斜是AAO从无序到有序的一个自组织的现象.

关键词: 阳极多孔氧化铝 , 斜孔 , 应力 , 流模型

调制掺杂AlxGa1-xN/GaN异质结磁输运研究

郑泽伟 , 沈波 , 张荣 , 桂永胜 , 蒋春萍 , 马智训 , 郑国珍 , 郭少令 , 施毅 , 韩平 , 郑有炓

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2000.04.021

通过低温和高磁场下的磁输运测量,首次在Al0.22Ga0.78N/GaN异质结中观察到了舒勃尼科夫-德哈斯振荡的双周期特性,发现在Al0.22Ga0.78N/GaN异质结的三角势阱中产生了二维电子气(2DEG)的第二子带占据,发生第二子带占据的阈值2DEG浓度估算为7.2×1012 cm-2,在阈值...

关键词: 异质结 , 舒勃尼科夫-德哈斯振荡 , 第二子带占据

高分辨率X射线衍射研究InGaN/GaN多量子阱结构In组分及厚度

李弋 , 刘斌 , 谢自力 , 张荣 , 修向前 , 江若琏 , 韩平 , 顾书林 , 施毅 , 郑有炓

功能材料

应用高分辨X射线衍射技术研究了MOCVD在宝石衬底上生长的InGaN/GaN多量子阱结构.测量(105)非对称面的倒易空间图获得量子阱结构的应变状态.由(002)面三轴衍射0级卫星峰峰位结合应变状况计算获得InGaN层中In含量,从(002)面的ω/2θ衍射谱以及小角反射谱获得多量子阱的一个周期的厚...

关键词: InGaN/GaN , 多量子阱 , In组分 , X射线衍射

AlxGa1-xN/AlN超晶格材料特性研究

谢自力 , 张荣 , 江若琏 , 刘斌 , 龚海梅 , 赵红 , 修向前 , 韩平 , 施毅 , 郑有炓

功能材料

用MOCVD 技术在(0001)蓝宝石衬底上成功研制了2寸衬底上无裂纹的AlN/Al0.3Ga0.7N超晶格材料.研究了AlxGa1-xN/AlN超晶格材料特性. 结果表明,缓冲层材料和结构对AlN/Al0.3Ga0.7N超晶格的表面型貌和界面特性有很大的影响.AFM研究表明利用GaN做支撑层生长的...

关键词: MOCVD , 超晶格 , AlxGa1-xN/AlN

Si(111)衬底上HVPE GaN厚膜生长

颜怀跃 , 修向前 , 华雪梅 , 刘战辉 , 周安 , 张荣 , 谢自力 , 韩平 , 施毅 , 郑有炓

功能材料

在Si(111)衬底上,以MOCVD方法高温外延生长的AIN为缓冲层,使用氮化物气相外延(HVPE)方法外延生长了15Km的c面GaN厚膜.并利用X射线衍射(XRD)、光致发光谱(PL)、拉曼光谱(Raman)等技术研究了GaN厚膜的结构和光学性质.分析结果表明,GaN厚膜具有六方纤锌矿结构,外延层...

关键词: 氢化物气相外延 , HVPE , Si , GaN

Ge纳米点/Si纳米线复合结构制备及微结构特征分析

叶敏华 , 王丁迪 , 徐子敬 , 濮林 , 施毅 , 韩民 , 张荣 , 郑有炓

功能材料

结合金属纳米颗粒辅助化学刻蚀法制备Si纳米线和低压化学气相外延自组织生长Ge纳米点制备了Ge纳米点/Si纳米线复合结构,采用电子显微镜、微区原子力/拉曼联合测试系统进行了微结构表征.Ge纳米点基本均匀地分布于Si纳米线上,通过改变生长参数可有效控制Ge纳米点的尺寸和密度.在非常扁薄的无支撑的纳米点/...

关键词: 纳米点 , 纳米线 , 制备 , 微结构

蓝宝石衬底上6H-SiC单晶薄膜的化学气相淀积生长

孙澜 , 陈平 , 韩平 , 郑有炓 , 史君 , 朱嘉 , 朱顺明 , 顾书林 , 张荣

功能材料

采用低压化学气相淀积方法以相对较低的生长温度(900~1050℃)在蓝宝石(0001)衬底上外延生长了6H-SiC单晶薄膜.其晶体质量和结构由X射线衍射谱和喇曼散射谱的测量结果得到确定.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱的观察表明所制备的6H-SiC薄膜中的Si-C键的结合能为181.4eV,Si与C的...

关键词: 化学气相淀积 , 6H-SiC , 蓝宝石 , 低温生长

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