蒋攀
,
黄佳木
,
郝晓培
,
董思勤
材料导报
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积了TiNx/Ag/TiNx低辐射膜,研究了制备工艺参数对低辐射膜光学性能的影响以及低辐射膜的耐腐蚀性能.结果表明,TiNx薄膜可对膜系起到很好的保护作用,当膜系的TiNx保护层厚度为32nm、内层TiNx膜厚为16nm(氮气流量为55sccm)、Ag层厚度为16nm时,制备的低辐射膜系具有优良的透过率、低辐射性能和耐腐蚀性能.
关键词:
磁控溅射
,
TiNx/Ag/TiNx低辐射
,
耐腐蚀性能
,
透过率
黄佳木
,
郝晓培
,
鞠明祥
材料保护
为了提高玻璃片上SiO2/Ag/SiO2复合膜的耐腐蚀性能,用磁控溅射法在其上制备了TiNx薄膜.采用X射线衍射(XRD)、扫描隧道显微镜(STM)研究了TiNx薄膜的结构及表面形貌;参照GB/T 5137.3-2002电子产品硫化氢腐蚀的检验方法研究了TiNx/SiO2/Ag/SiO2低辐射膜耐H2S气体的腐蚀性能.结果表明:TiNx/SiO2/Ag/SiO2低辐射膜中,TiNx薄膜为较致密的非晶态结构,其厚度达到10 nm以上才能对Ag膜起到很好的保护作用;低辐射膜腐蚀前后的平均透过率变化不到5%;低辐射膜被H2S气体腐蚀后的产物主要为Ag2S和H2O,水分子的生成对其腐蚀有推动作用.
关键词:
低辐射膜
,
TiNx/SiO2/Ag/SiO2
,
磁控溅射
,
耐腐蚀
,
H2S气体
