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高纯超细氧化镁的制备工艺

郭孔彬 , 杨喜云 , 刘政坤 , 徐徽 , 黄海强

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2016.12.021

以MgCl2·6H2O为原料,PVA与CTAB为添加剂,采用氨水直接沉淀制备氢氧化镁前驱体,再经煅烧得到高纯超细氧化镁.研究了温度、镁离子浓度、添加剂用量、原料配比和煅烧温度对氧化镁粒度的影响.确定最佳工艺条件为:反应温度40℃,Mg2+浓度1 mol/L,PVA用量0.6%(质量分数),CTAB的用量1.2%(质量分数),n(NH3·H2O)∶n(MgCl2·6H2O)=3.3∶1,煅烧温度600℃,煅烧时间3h.荧光光谱分析表明,氧化镁纯度达到了99.9%以上;激光粒度和SEM结果显示,粒子分散性较好,平均粒径为190 nm,粒度分布呈正态分布.

关键词: 超细 , 氧化镁 , 沉淀

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