范迪
,
雷浩
,
郭朝乾
,
宫骏
,
孙超
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.06.024
目的 研究调制周期对磁控溅射WB2/CrN多层膜结构及性能的影响.方法 通过双靶直流磁控溅射法,在硅片、石英玻璃片及不锈钢上,制备AlB2型WB2薄膜与CrN薄膜及其多层复合薄膜,采用X射线衍射及扫描电子显微镜对其相结构及形貌进行观察和分析,使用维氏显微硬度仪及划痕仪对多层膜的硬度及膜基结合力进行研...
关键词:
多层膜
,
调制周期
,
磁控溅射
,
硬度
,
结合力
,
WB2
