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偏压对ITO薄膜生长模式和光电性能的影响

马瑞新 , 李士娜 , 锁国权 , 任磊

材料科学与工艺

为明确溅射偏压对ITO薄膜性质的影响,用射频磁控溅射法于室温在玻璃衬底制备出ITO透明导电薄膜,研究了不同偏压下ITO薄膜的生长模式、光学和电学性能.结果表明：随着偏压的增加,薄膜沉积模式经历了沉积、沉积和扩散、表面脱附3种方式;AFM和SEM显示,偏压为100 V时,膜层表面光洁、均匀,粗糙度最小...

关键词: ITO薄膜 , 偏压 , 生长模式 , 微观结构 , 光电性能