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检索条件:作者=闫闯  

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适合产业化的显示屏化学减薄工艺的研究

李世宁 , 邹凤君 , 王丽娟 , 何维威 , 闫闯 , 黄普林 , 孙洋 , 孙丽晶

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20163101.0052

超薄显示技术已成为市场的一种主流趋势.本文利用刻蚀后清洗的间歇式工艺研究了显示屏半成品的化学减薄.在光刻胶和边框胶保护下,调整氢氟酸浓度,加入一定量的硝酸、浓硫酸和盐酸,并添加超声辅助条件,刻蚀速率明显提高.通过交替的清洗工艺有效地降低了表面粗糙度,并减少了表面白色附着物的沉淀.显示屏厚度从0.8 ...

关键词: 显示屏 , 化学减薄 , 间歇式工艺 , 刻蚀