闫鹏勋
,
李晓春
,
李春
,
崇二敏
,
刘洋
,
李鑫
,
徐建伟
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.01.029
利用自行研制的磁过滤等离子体技术(FCAP),并创造性地对衬底施加低频率周期性负偏压,在室温下的单晶硅表面上制备了高质量的非晶金刚石薄膜.用扫描电子显微镜(SEM),原子力显微镜(AFM),红外吸收光谱(IR),纳米硬度计和摩擦试验仪对制备的非晶金刚石薄膜进行了结构和性能表征.实验结果表明:制备的非晶金刚石薄膜表面十分光滑,表面粗糙度仅为0.1nm;薄膜中sp3键成份高达70.7%,对应薄膜硬度达到74.8GPa,接近金刚石的硬度;薄膜摩擦系数在0.12～0.16之间.文中也讨论了偏压类型对沉积薄膜结构的影响.
关键词:
磁过滤等离子体
,
非晶金刚石膜
,
周期性偏压
,
性能
魏智强
,
温贤伦
,
王君
,
吴志国
,
徐建伟
,
吴现成
,
闫鹏勋
稀有金属材料与工程
在Ar惰性保护气氛中,采用阳极弧放电等离子方法用自行研制的装置制备出了高纯Ni纳米粉末.研究了在制备过程中电弧电流、气体压力等工艺参数对纳米粉产率及粒度的影响.利用XRD、TEM对制得的样品的形貌、晶体结构、粒度及其分布进行测定.结果表明,适当控制某些工艺参数就能制取粒径范围在20 nm～100 nm的纳米粉,在其它工艺参数不变条件下,气压升高或电弧电流增大,都会使粒度增大,产率提高.
关键词:
阳极等离子体
,
纳米粉
,
粒度
,
工艺参数
魏智强
,
巩纪君
,
乔宏霞
,
冯旺军
,
王青
,
戴剑锋
,
闫鹏勋
材料导报
采用阳极弧放电等离子体方法制备了高纯银纳米粉末.利用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)对样品的形貌、晶体结构、粒度进行性能表征.利用静态表面吸附仪依据BET多层吸附原理,在液氮温度下(78K)和气体饱和蒸气压力范围内测试样品对N2的吸附-脱附等温线,用图解法根据吸附等温线求出单层吸附容量,由BET吸附公式计算出纳米粉末比表面积.结果表明:银纳米粉末的晶体结构为fcc结构,粒径范围在10～50nm,平均粒径为26nm,比表面积为23.81 m2/g.
关键词:
Ag纳米粉
,
氮吸附
,
比表面积
,
粒度
闫志巾
,
白利锋
,
魏智强
,
吴志国
,
王君
,
常敬波
,
闫鹏勋
稀有金属材料与工程
利用自行研制的约束弧等离子体纳米粉体实验装置成功制备了平均晶粒尺寸为22 nm的NiO纳米粉体.通过X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、选区电子衍射(SAED)和红外光谱(IR)等测试手段对样品的晶体结构、晶粒尺寸以及形貌进行了表征;并利用BET氮吸附法测定样品的比表面积.结果表明:约束弧等离子体方法制备的NiO纳米粉体结晶良好、粒度均匀、分散性好,部分颗粒呈现规则菱形十二面体几何外型,比表面积为33.9 m2/g.
关键词:
NiO纳米粉体
,
等离子体
,
约束弧
魏智强
,
夏天东
,
姜金龙
,
沈婕
,
徐仰涛
,
张鹏林
,
闫鹏勋
稀有金属材料与工程
采用阳极弧放电等离子体法成功制备了银纳米粉体,并利用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和选区电子衍射(SAED)对样品的形貌、晶体结构、粒度及其分布进行性能表征.利用静态表面吸附仪测试样品对N2的吸附-脱附等温线,依据BJH理论模型分析样品的孔结构;利用BET吸附公式计算出样品的比表面积.结果表明:所制备的银纳米粉末的晶体结构与相应的块体材料基本相同,为fcc结构,其粒度主要分布在10～50 nm,平均粒度为26 nm,比表面积为23.81 m2/g,呈规则的类球形分布.
关键词:
银纳米粉
,
形貌
,
粒度
,
比表面积
,
孔结构
魏智强
,
乔宏霞
,
冯旺军
,
戴剑锋
,
王青
,
李维学
,
闫鹏勋
材料科学与工艺
doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2006.01.022
为了研究阳极弧放电等离子体方法在制备镍纳米粉过程中电弧电流、气体压力等工艺参数对纳米粉产率及粒度的影响,寻求制备金属纳米粉的最佳工艺参数.利用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和相应选区电子衍射(ED)、BET吸附等测试手段对样品的形貌、晶体结构、粒度分布、比表面积等性能进行了表征.研究结果表明:本法所制得的镍纳米粉的晶格结构为fcc结构.呈规则的球形链状分布,适当控制工艺参数就能制取粒径范围在20-100nm的金属纳米粉,在其他工艺参数不变条件下,气压升高或电弧电流增大,都会使粒度增大,产率增大.
关键词:
阳极弧等离子体
,
纳米粉
,
性能
,
工艺参数
王明旭
,
魏志强
,
李年春
,
赵学福
,
闫鹏勋
材料导报
采用阳极弧放电等离子体方法制备了高纯镍纳米粉末并对其粒度进行了表征.利用X射线衍射法(XRD)测试样品的晶型和粒度,用谢乐Scherrer公式计算颗粒粒度;采用透射电子显微镜(TEM)分析样品的形貌和粒度分布;采用表面吸附仪测定样品的N2吸附-脱附等温线,并由BET理论模型计算出样品的比表面积和颗粒粒度.实验结果表明三者测得的值基本一致.
关键词:
Ni纳米粉
,
粒度
,
Scherrer公式
,
TEM法
,
BET比表面积法
袁晓梅
,
王君
,
吴志国
,
岳光辉
,
闫鹏勋
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.03.045
采用反应射频磁控溅射法,在氮气和氩气的混合气体氛围中,玻璃基底上制备出了具有半导体特性的氮化铜(Cu3N)薄膜,并研究了混合气体中氮气分量对Cu3N薄膜的择优生长取向、平均晶粒尺寸、电阻率和光学带隙的影响.原子力显微镜,X射线衍射仪,四探针电阻仪,紫外可见光谱分析及纳米压痕仪等测试结果表明:薄膜由紧密排列的柱状晶粒构成,表面光滑致密;随着氮气分量的增加,Cu3N薄膜由沿(111)晶面择优生长转变为沿(100)晶面择优生长,晶粒尺寸变小,电阻率ρ从1.51×102Ω·cm逐渐增加到1.129×103Ω·cm;薄膜的光学带隙在1.34～1.75eV间变化;薄膜的硬度约为6.0GPa,残余模量约为108.3GPa.
关键词:
氮化铜薄膜
,
射频磁控溅射
,
表面形貌
,
电阻率
,
光学带隙
,
显微硬度
闫鹏勋
,
李晓春
,
李春
,
李鑫
,
徐建伟
中国有色金属学报
采用自行研制的磁过滤等离子体装置在单晶Si基底上制备了优质类金刚石(DLC)薄膜.运用红外光谱(IR)、扫描电镜(SEM),原子力显微镜(AFM)和纳米压痕仪对样品进行了表征和分析,着重研究了衬底偏压类型对制备薄膜的影响.结果表明:在无偏压或周期性负偏压下制备的DLC薄膜的sp3含量比连续负偏压下制备的薄膜的sp3含量要高;同时在周期性偏压下制备的薄膜表面较光滑,其表面粗糙度仅为0.1 nm,sp3含量达到66.8%,相应的纳米硬度也较高(达到80GPa).同时对相应的成膜机理进行了讨论.
关键词:
周期性偏压
,
优质DLC膜
,
磁过滤等离子体
,
硬度
