游志恒
,
满卫东
,
吕继磊
,
阳硕
,
何莲
,
徐群峰
,
白华
,
江南
人工晶体学报
采用直流辉光放电化学气相沉积设备,以H2/CH4/Ar混合气体为工作气体,在2英寸硅片沉积出了晶粒尺寸为20～ 40 nm的纳米金刚石薄膜.采用SEM、Raman、微摩擦试验机等分析了不同CH4浓度、Ar浓度对NCD薄膜生长特性的影响.研究结果表明:金刚石薄膜的晶粒尺寸随着CH4浓度的增加而减小,但...
关键词:
直流辉光放电
,
化学气相沉积
,
纳米金刚石
,
摩擦系数
张玮
,
满卫东
,
林晓棋
,
吕继磊
,
阳硕
,
赵彦君
人工晶体学报
利用直流辉光等离子体化学气相沉积(DC-GD CVD)设备在碳化硅(SiC)密封材料上沉积复合金刚石薄膜(ICD).实验通过两步工艺,先在SiC上沉积一层微米金刚石薄膜(MCD),然后再沉积一层纳米金刚石薄膜(NCD)形成复合金刚石薄膜(ICD).通过场发射扫面电镜和拉曼测试,研究了MCD、NCD和...
关键词:
碳化硅
,
金刚石薄膜
,
等离子体化学气相沉积
,
摩擦系数
