周章渝
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侯雪
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杨晓玲
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陈会
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王松
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卢海秋
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肖植芬
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傅兴华
低温物理学报
本文应用磁控溅射技术(MS)和混合物理化学气相沉积法(HPCVD)在单晶Al2 O3基底上制备MgB2/Ta多层膜.通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)和标准四线法对MgB2/Ta试样的表面形貌、晶体结构、超导特性及断面结构进行了测量研究.结果表明MgB2/Ta多层膜结构清晰,超导薄膜显示出良好的超导特性.
关键词:
MgB2超导薄膜
,
钽薄膜
,
多层膜
,
混合物理化学气相沉积法
,
磁控溅射技术
