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纳米SiO2/Cu复合镀层的制备和组织性能研究

王文芳 , 吴玉程 , 郑玉春 , 王学伦 , 陈加取

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2004.02.006

采用铜和纳米SiO2粉末的复合电沉积方法,在45钢板表面获得了厚度0.1~0.2 mm的Cu/SiO2 复合镀层,并应用扫描电镜、光学显微镜、显微硬度计、磨损试验机等对复合镀层的微观组织结构和性能进行了分析研究.结果表明:在实验进行的工艺范围内,可获得表面平整、光滑、 SiO2微粒均匀分布且与基体具有良好结合的复合电沉积层;复合镀层具有良好的硬度和耐磨性能;随镀覆时间的增加,复合镀层中的微粒粒度增加,并先沉积的粒子为核心而长大.

关键词: 复合电沉积 , 纳米 , 二氧化硅 , , 复合材料

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