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甲烷流量对中频磁控溅射制备TiSi-C:H薄膜生长和性能的影响

姜金龙 , 陈娣 , 王琼 , 黄浩 , 朱维君 , 郝俊英

稀有金属材料与工程

以甲烷为先驱气体通过中频磁控溅射Ti80Si20靶材在硅和不锈钢基底上制备TiSi-C:H薄膜,研究了甲烷流量对薄膜沉积速率、结构、力学和摩擦学性能的影响.结果表明,甲烷流量对薄膜结构、力学和摩擦学性能有显著影响,随甲烷流量增加薄膜从包含约10nm晶的锥状纳米晶/非晶复合结构向非晶结构转变,在低甲烷流量下沉积的薄膜具有高硬度、高应力和高磨损率;在高甲烷流量下薄膜硬度和应力降低,而摩擦学性能提高.薄膜力学和摩擦学性能的变化被认为是随甲烷流量增加薄膜结构演化的结果.

关键词: a-C:H薄膜 , 中频磁控溅射 , 力学性能 , 摩擦性能

氩离子溅射刻蚀对Ti-Si-C纳米复合薄膜XPS分析的影响

姜金龙 , 陈娣 , 王琼 , 杨华 , 魏智强

稀有金属材料与工程

通过中频非平衡磁控溅射Ti80Si20复合靶在氩气和甲烷混合气氛中沉积Ti-Si-C复合薄膜.采用X射线衍射仪、Raman光谱和X射线光电子能谱分析薄膜微结构.结果显示:制备的薄膜为非晶碳(a-C∶Si∶H)包裹约10 nm TiC晶粒的复合结构,氩离子溅射刻蚀对XPS分析结果有显著影响.随氩离子刻蚀溅射刻蚀时间增加,薄膜表面C、O原子含量明显降低,而Ti、Si原子含量增加.氩离子溅射刻蚀导致薄膜非晶碳相发生石墨化转变,即sp3C-C(H)/sp2C-C比率减小,同时,C-Ti*/C-Ti和C-(Ti+Ti*)/C-C强度比明显增加.

关键词: Ti-Si-C纳米复合薄膜 , 氩离子溅射刻蚀 , X射线光电子能谱 , 键合结构

电化学沉积铁-非晶碳磁性纳米复合薄膜

王玉宝 , 陈娣 , 张霞 , 魏智强 , 姜金龙

材料热处理学报

利用液相电化学方法,以乙酰丙酮铁的甲醇溶液为碳源,在单晶硅表面制备了铁-非晶碳磁性纳米复合薄膜.通过扫描电子显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱和Raman光谱技术分析了薄膜组成、形貌和结构.结果表明:Fe掺杂的非晶碳膜为含有Fe、Fe3O4纳米晶和非晶碳基的复合结构.和未掺杂非晶碳膜相比,Fe掺杂的薄膜具有更高的sp2碳含量和无序度.磁滞回线显示Fe掺杂的薄膜具有软磁特性,沿薄膜表面方向为易磁化方向.

关键词: 电化学沉积 , 铁掺杂 , 非晶碳膜 , 磁学性质

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