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真空离子镀技术研发历程及应用

陈宝清 , 董闯

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2013.08.008

离子镀是在真空状态下完成的工艺操作,对环境没有污染,是代替污染严重的电镀技术的主要出路之一.离子镀膜层厚度及应用可分为:离子镀装饰薄膜及离子镀功能厚膜.离子镀装饰薄膜主要用在提高工件装饰性和抗大气腐蚀,膜层δ一般<5 μm.离子镀功能厚膜主要用在提高工件耐磨性和耐蚀性,膜层δ为40μm以上,离子镀铬合金厚膜代替电镀硬铬工艺的研发,取得满意成果,已投入工业生产.

关键词: 电镀 , 真空离子镀 , 中间层合金 , 离子镀装饰膜 , 离子镀功能厚膜

真空离子精饰镀膜技术研究

陈宝清 , 董闯 , 吕传花

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2002.05.009

黄铜基材装饰件表面采用高能级溅射离子镀,镀不锈钢代替电镀钯-镍合金,采用等离子体型阴极弧源-磁控溅射镀技术在不锈钢镀膜表面上镀制TiN/Au透明陶瓷保护膜SiO2、TiO2.并对各膜层的硬度、耐蚀性、耐磨性及相结构进行分析.

关键词: 离子掺金 , 高能级磁控溅射离子镀 , 等离子体型阴极弧源-磁控溅射镀

Ni基体磁控溅射离子镀Al膜的电镜观察

万立骏 , 陈宝清 , 郭可信

金属学报

利用横截面电镜样品,对Ni基体磁控溅射离子镀Al膜进行了透射电镜观察。研究了不同工艺条件下镀膜的组织形态,相结构以及相分布。镀覆5min时,在Ni基体和镀Al膜交界处,发现一个Al-Ni系中迄今未见报道的未知相。经电子衍射分析其为体心四方点阵,a=b=0.588nm,c=0.480nm。研究了随时间变化的镀膜组织结构变化情况。

关键词: 磁控溅射 , ion-plating , microstructure , plated film

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