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黄士勇 , 王德苗 , 任高潮 , 陈抗生
材料研究学报
用磁控反应溅射方法制备ITO膜时,溅射速率不断变化,并且等离子体也发出较强的具有较宽光谱的光.报导了用调整特征光谱强度来控制溅射速率的新方法,并用以控制ITO膜的沉积过程
关键词: 光谱法 , null , null , null
