潘毅
,
陈荣发
,
张显亮
,
刘韬
,
吴龙
,
杨华
,
李青青
腐蚀与防护
采用直流磁控溅射的方法在304不锈钢表面上制备金属钛薄膜,溅射5min后,通过扫描电镜（SEM）观察薄膜厚度为15μm。对比研究了304不锈钢镀膜前和镀膜后在FeCl3溶液中的腐蚀速率,通过显微镜观察两者在腐蚀之后的组织形貌,结果表明,通过在表面制备金属膜的方法（镀膜时间至少5min）可以有效提高304不锈钢在氯离子环境下的耐腐蚀性能。
关键词:
304不锈钢
,
直流磁控溅射
,
氯离子
,
腐蚀速率
相炳坤
,
左敦稳
,
黎向锋
,
徐锋
,
李多生
,
陈荣发
人工晶体学报
金刚石膜具有特别优异的性能,在高技术领域有着极为广泛的应用.本文采集1985年到2007年中国金刚石膜技术专利文献,建立专利数据库,从技术和竞争两个方面对其发展脉络和竞争格局进行定量和定性分析,揭示出国内金刚石膜技术已处于较成熟阶段,机械加工和半导体电子领域是其潜在的重点应用领域,涂层技术和定向或单晶生长是其重点开发工艺,国内申请人在专利数量上占优,国外申请人在专利质量上见长,并对国内外重要申请人的研发能力和研发重点进行对比分析,最后提出了一些发展金刚石膜技术的专利战略.
关键词:
金刚石膜
,
专利数据库
,
专利分析
,
竞争
,
专利战略
陈荣发
,
左敦稳
,
李多生
,
相炳坤
,
赵礼刚
,
王珉
航空材料学报
doi:10.3969/j.issn.1005-5053.2006.01.005
采用高功率直流电弧等离子体喷射化学气相沉积工艺,制备了不同厚度的自支称金刚石厚膜.实验发现,等离子体炬阳极喷嘴积碳是沉积过程中最突出的问题之一.从理论和实验两个方面研究了阳极积碳产生的原因,并通过激光拉曼光谱分析了碳球的结构和成分.结果表明,碳球由金刚石层、混合层和最外面的石墨层构成.详细分析了甲烷浓度、冷却水温度、放电电弧的局部高温、阳极喷嘴的表面质量对积碳形成的影响,并提出了改进措施.
关键词:
阳极碳球
,
结构与成分
,
等离子炬
,
工艺改进
李多生
,
左敦稳
,
陈荣发
,
相炳坤
,
赵礼刚
,
王珉
稀有金属材料与工程
采用直流等离子体CVD法制备了金刚石膜,利用X射线衍射、光学显微镜、扫描电镜、激光拉曼光谱等技术研究了金刚石膜的微观组织,晶粒择优取向生长过程.结果表明:开始形核时,晶粒随机无择优生长;对基体表面氢刻蚀预处理,有利于晶胚形核长大.甲烷浓度对金刚石膜晶粒择优取向生长有重要影响:甲烷浓度较低时,金刚石膜(100)面择优生长,形成以(111)为主的八面体晶体,并且可以制取中心和边缘均匀、高质量光学级自支撑金刚石膜,但生长速率慢,效率低.同时也发现金刚石膜存在空位、孔洞等缺陷.
关键词:
化学气相沉积
,
直流等离子体
,
金刚石膜
,
微观结构
相炳坤
,
左敦稳
,
李多生
,
陆海泉
,
陈荣发
人工晶体学报
利用直流电弧等离子体喷射法沉积装置在底径65 mm、高5 mm的Mo球面衬底上制备出厚度大于500 μm金刚石膜.用千分尺测量膜径向厚度以判断膜厚均匀性,用SEM观察膜的表面形貌,用拉曼谱仪测量膜的表面纯度,通过分析电镜形貌和拉曼谱峰的分布特点来判断金刚石膜的质量均匀性.结果表明,在优化工艺条件下,直流电弧等离子体喷射法设备可以在球面Mo衬底上生长出厚度和质量都比较均匀的半透光的自支撑球面金刚石厚膜.
关键词:
金刚石膜
,
直流电弧等离子体喷射法
,
均匀性
,
SEM
,
拉曼
陈荣发
,
左敦稳
,
李多生
,
相炳坤
,
赵礼刚
,
王珉
金属学报
采用高功率直流电弧等离子体CVD工艺制备了不同厚度的无裂纹自支撑金刚石厚膜。实验中观察到在金刚石厚膜生长过程中出现了形貌不稳定性，其程度随甲烷浓度的不同而变化。从理论和实验两个方面对这种不稳定性进行了讨论, 认为直流电弧等离子体的高温造成碳源高饱和度是生长不稳定性的根本原因。 实验结果表明，在沉积金刚石厚膜时，为了稳定地获得高质量的厚膜，甲烷浓度不宜过高。
关键词:
金刚石厚膜
,
null
,
null
陈荣发
,
左敦稳
,
李多生
,
相炳坤
,
赵礼刚
,
王珉
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2005.10.017
采用高功率直流电弧等离子体CVD工艺制备了不同厚度的无裂纹自支撑金刚石厚膜.实验中观察到在金刚石厚膜生长过程中出现了形貌不稳定性,其程度随甲烷浓度的不同而变化.从理论和实验两个方面对这种不稳定性进行了讨论,认为直流电弧等离子体的高温造成碳源高饱和度是生长不稳定性的根本原因.实验结果表明,在沉积金刚石厚膜时,为了稳定地获得高质量的厚膜,甲烷浓度不宜过高.
关键词:
金刚石厚膜
,
生长稳定性
,
甲烷浓度
,
直流等离子喷射
,
化学汽相沉积
靳惠明
,
陈荣发
,
张剑峰
,
机械工程材料
doi:10.3969/j.issn.1000-3738.2004.05.003
对纯镍及其表面离子注钇试样在1 000℃空气中的恒温氧化和循环氧化行为进行了研究.用扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)对氧化膜的表面形貌及结构进行了观测.此外,用声发射(AE)技术研究了氧化膜/基体界面上缺陷的分布情况,并用激光拉曼(Raman)谱对注钇引起的膜内应力变化进行了测量.结果表明:离子注钇降低了NiO氧化膜的生长速率,提高了镍的抗氧化性能;离子注钇减小了表面NiO的晶粒尺寸,降低了膜内压应力水平;离子注钇还减小了氧化膜/基体界面缺陷的平均尺寸和数目,因而极大地提高了镍表面NiO氧化膜的粘附性和保护性.
关键词:
氧化
,
离子注入
,
声发射
,
激光拉曼
,
钇
