雷洁红
,
邢丕峰
,
唐永建
,
吴卫东
,
王锋
稀有金属材料与工程
用脉冲激光沉积(PLD)法在Si(100)基片上制备金属Mo薄膜,研究薄膜结晶性能与能量密度之间的关系,探讨薄膜生长机制和粒子能量在薄膜生长中的作用.原子力显微镜(AFM)图像显示,薄膜表面平整、光滑,均方根粗糙度小于2 nm.X射线衍射(XRD)分析表明,随着能量密度的增加,Mo薄膜衍射峰宽变窄,薄膜从非晶态逐步变为多晶态,晶粒尺寸逐步变大.
关键词:
脉冲激光沉积(PLD)
,
Mo薄膜
,
能量密度
,
表面粗糙度
,
晶粒尺寸
雷洁红
,
邢丕峰
,
唐永建
,
吴卫东
材料导报
软X射线短波段区域(1～10nm)高反射率多层膜的制备对软X射线光学的研究具有十分重要的意义.该波段要求镀膜过程中能减小界面扩散,实现膜厚控制,从而严格限制了制备技术的应用.介绍了软X射线短波段多层膜的发展现状和制备技术,主要包括蒸发沉积、溅射沉积、脉冲激光沉积技术和激光分子束外延,对这些方法进行了比较并提出了今后的研究方向.
关键词:
软X射线多层膜
,
表面粗糙度
,
制备技术
