宋淑梅
,
杨田林
,
辛艳青
,
姜丽莉
,
李延辉
,
庞志勇
,
林亮
,
韩圣浩
功能材料
采用射频磁控溅射法,室温下在玻璃衬底上制备出了具有良好附着性、低电阻率和高透过率的新型透明导电薄膜YZO(ZnO掺杂Y2O3简称YZO).在薄膜厚度为600nm的情况下,研究了薄膜电学特性随溅射功率和溅射气压的变化情况.X射线衍射谱表明YZO薄膜是多晶膜,具有ZnO的六角纤锌矿结构,最佳取向为(002)方向.最佳溅射条件下制备的薄膜电阻率为8.71×10-4Ω·cm,在可见光范围内平均透过率达到92.3%,禁带宽度为3.57eV.
关键词:
透明导电薄膜
,
YZO
,
射频磁控溅射
,
电阻率
,
透过率
杨田林
,
张之圣
,
宋淑梅
,
辛艳青
,
姜丽莉
,
李延辉
,
韩圣浩
功能材料
采用射频磁控溅射和离子束溅射联合设备在玻璃衬底上制备出了具有良好附着性、低电阻率和高透过率的GZO/Ag/GZO(ZnO掺杂Ga_2O_3简称GZO)多层薄膜.X射线衍射谱表明GZO/Ag/GZO多层薄膜是多晶膜,GZO层具有ZnO的六角纤锌矿结构,最佳取向为(002)方向;Ag层是立方结构,具有(111)取向.在GZO层厚度一定的情况下,研究了Ag层厚度的变化对多层膜结构以及光电特性的影响.研究发现,当Ag层厚度为10nm时,3层膜的电阻率为9×10~(-5)Ω·cm,在可见光范围内平均透过率达到89.7%,薄膜对应的品质因子数值为3.4×10~(-2)Ω~(-1).
关键词:
GZO/Ag/GZO
,
多层膜
,
溅射方法
,
透明导电膜
杨田林
,
宋淑梅
,
辛艳青
,
李延辉
,
杜桂强
,
韩圣浩
人工晶体学报
室温下采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备出了具有良好附着性、低电阻率和高透过率的新型ZnO∶Y (ZnO掺杂Y2O3,简称ZnO∶Y)透明导电薄膜.研究了薄膜厚度对ZnO∶Y薄膜结构、光电特性的影响.结果表明:不同厚度的ZnO∶Y薄膜均为多晶薄膜,具有ZnO六角纤锌矿结构,最佳取向为(002)方向.随薄膜厚度增加,其电阻率减小,当薄膜厚度增至800 nm时,其电阻率为8.36×10-4 Ω·cm,迁移率为15.3 cm2 ·V-1 ·s-1,载流子浓度为4.88×1020 cm-3.不同厚度的薄膜在可见光范围内平均透过率均为90％以上,当薄膜厚度从200 nm增加到800 nm时,薄膜禁带宽度从3.68 eV减小到3.61 eV.
关键词:
磁控溅射
,
ZnO∶Y薄膜
,
电阻率
,
透过率
杨田林
,
韩圣浩
,
张鹏
,
王爱芳
液晶与显示
doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2004.05.002
讨论了在低温条件下制备的ZnO:Al薄膜的结构、表面形貌和光电特性,对聚酰亚胺(Polvimide,PI)和玻璃两种不同衬底的薄膜进行了比较研究.两种不同衬底的薄膜均为多晶膜,具有六角纤锌矿结构,最佳取向均为(002)方向,衬底温度从室温到210℃时,制备的薄膜密度变化范围为4.6～5.16 g/cm3.在柔性衬底和玻璃衬底上制备的薄膜最低电阻率分别为5.3×10-4Ω·cm和5.1×10-4Ω·cm,薄膜在可见光区的平均透过率分别达到了72%和85%,讨论了两种衬底薄膜电学特性的稳定性.
关键词:
ZnO:Al薄膜
,
光电特性
,
射频磁控溅射
刘文利
,
韩圣浩
,
张酣
低温物理学报
doi:10.3969/j.issn.1000-3258.2004.04.008
我们根据一种结构分块模型,计算了与超导转变温度Tc密切相关的块之间相互作用能,讨论了HgBa2CuO4+δ中载流子分布对相互作用能的影响.通过计算不同氧缺陷下,空穴在不同平面以及空穴在Cu-O平面不同位置上对相互作用能的影响,研究了它们与超导电性的关联.计算表明,空穴在Cu-O面上的位置不仅明显地影响到相互作用能的大小,而且影响相互作用能随氧含量的变化趋势,该结果为我们了解载流子在Cu-O面上分布是否均匀提供了一定的线索.结果还表明,HgBa2CuO4+δ中的载流子主要分布在Cu-O平面上.
关键词:
结构
,
结合能
,
超导电性
