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针对铁基合金粉末等离子喷涂成形件表面耐腐蚀性能较差,结合其成分及微观结构特点,着重研究等离子喷涂成形件化学镀镍处理工艺,并讨论了相关问题.

等离子体源离子渗氮合成硼碳氮薄膜的研究

采用等离子体源离子渗氮，即低能（1-3keV）、超大剂量（10¹⁹～10²⁰ions．cm^-2）氮离子注入-同步热扩散技术，在300～500℃处理碳化硼薄膜，合成了硼碳氮三元薄膜．俄歇电子能谱和漫反射富氏变换红外光谱分析表明，合成的硼碳氮薄膜是碳硼比固定，氮含量可控的非晶态薄膜．300℃渗氮的薄膜由sp~2型的硼、碳、氮微区构成，而500℃渗氮的薄膜则由sp³和sp²型复合的微区组成．较高的渗氮工艺温度促进sP³型结构的形成，渗氮工艺时间对薄膜结构的影响不显著．

关键词: 等离子体源离子渗氮 , null

非晶碳氢薄膜结构及光学间隙

刘东平 , 李芳 , 俞世吉 , 马腾才

材料科学与工艺 doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2000.02.014

利用完全抑制网络结构(FCN)对氢化非晶碳(α-C :H)膜组成进行模拟计算,得出形成质密α-C:H膜条件是H、SP2C和SP3C在其三元相图中应在一个三角形区域内.大量实验数据表明,模拟结果与实验结果相当吻合.在α-C:H中主要存在氢、四面体碳、乙烯、苯环和双苯等结构,它们相对含量在三角形区域内变化.该理论模拟对薄膜光学间隙的实验分析给予了很好的解释.

关键词: 氢化非晶碳膜 , 完全抑制网络结构 , 光学间隙

合成硼碳氮体系薄膜的XPS研究

雷明凯 , 袁力江 , 张仲麟 , 马腾才

无机材料学报

采用Ｘ射线光电子谱（ＸＰＳ）分析３００～５００℃ 等离子体源离子渗氮硼和碳化硼薄膜合成的氮化硼和硼碳氮薄膜利用合成薄膜成分可控的特点，研究Ｂ、Ｃ、Ｎ对薄膜的ＸＰＳ影响结果表明，ＸＰＳ分析合成氮化硼薄膜能够确定其化学组成，但不能确定ｓｐ^２和ｓｐ^３型键合结构特性；ＸＰＳ分析硼碳氮薄膜能够确定其成分和结构特性在较高的工艺温度下，等离子体源离子渗氮合成的硼碳氮薄膜具有ｓｐ^２和ｓｐ^３型复合的键合结构

关键词: 硼碳氮薄膜 , null , null

用强流脉冲离子束(HIPIB)方法在玻璃表面制备ITO膜

刘永兴 , 王承遇 , 马腾才 , 夏元良 , 谭畅

硅酸盐通报 doi:10.3969/j.issn.1001-1625.2001.02.003

强流脉冲离子束(HIPIB)方法以新的成膜机理通过高强度(约108W/cm2)，脉冲(约70ns)离子束照射到ITO陶瓷靶材上产生的高密度、高温二次等离子体快速地沉积到室温玻璃基片上成功地制得ITO薄膜。经一次脉冲发射即可制得约65nm厚的膜。通过原子力显微镜(AFM)图象分析膜的表面形貌，膜的平整性与膜厚有直接关系，一次沉积的膜的平整度良好。

关键词: 强流脉冲离子束(HIPIB) ITO薄膜原子力显微镜(AFM)

强流脉冲离子束辐照对DZ4合金微观结构的影响

梅显秀 , 李晓娜 , 孙文飞 , 董闯 , 马腾才

稀有金属材料与工程

在γ'相;随着深度的增加,γ'相的含量逐渐增加.

关键词: 强流脉冲离子束辐照 , DZ4合金 , 微观结构

用微波电子自旋共振等离子源离子注入增强溅射沉积法在玻璃表面制备氧化铟膜

王承遇 , 王波 , 陶瑛 , 刘洪珠 , 马腾才

硅酸盐通报 doi:10.3969/j.issn.1001-1625.2000.02.007

利用微波电子自旋共振等离子源离子注入增强沉积法在玻璃表面制备了非化学计量半导体氧化铟膜.与反应溅射和反应沉积相比,此法制备的氧化铟膜与玻璃基体的附着良好,并因高的注入能量而改善了玻璃表面硬度.同时研究了In与O的结合能及浓度深度分布.

关键词: 氧化铟 , 玻璃涂层 , 半导体薄膜 , 离子注入

离子束混合制备非晶Sm-Fe-Zr合金薄膜

徐送宁 , 孙树滋 , 宫泽祥 , 马腾才

材料研究学报

采用离子束混合技术制备非晶Sm—Fe-Zr合金薄膜,在Sin的含量为x=400,300,200m/g的Sm—Fe多层薄膜中,注入能量为60KeV,剂量为1×1017ion/cm2的Zr+,研究非晶形成条件及合金薄膜的磁性能.实验发现:三种成分配比的样品在Zr+注入后磁性能皆发生明显的变化.X=400mg/g样品没有形成非晶,其主相为SmFe5;x=300,200mg/g样品形成非晶,且x=200mg/g样品晶化后形成一个面心结构未知相和α—Fe相

关键词: 离子束混合 , null , null