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SnO2:F导电薄膜的制备方法和性能表征

苗莉 , 徐瑞松 , 马跃良

材料导报

采用喷雾热分解(Spray pyrolysis)方法,以NH4F、SnCl2·2H2O为原料,对反应液配方进行了优化,在普通玻璃衬底上制备出了光电性能优良的掺F二氧化锡透明导电薄膜.采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、紫外-可见分光光度计(UV/VIS)对薄膜的结构、形貌、光学、电学特征进行了表征和分析.结果表明:在衬底温度为500℃, NH4F/SnCl2·2H2O的质量百分比为20%,喷涂时间为15s时掺F二氧化锡薄膜的方块电阻最低达到6.2Ω/□,可见光透射率为86.95%,且薄膜晶粒均匀,表面形貌平整致密.

关键词: SnO2:F导电薄膜 , 喷雾热分解法 , 性能

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