高立华
,
郑玉婴
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2015.08.006
采用射频磁控溅射工艺，以高密度氧化锌铝陶瓷靶为靶材，衬底温度控制在室温，在玻璃基底上制备了透明导电 ZnO∶Al(ZAO)薄膜.利用 X 射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外-可见光谱仪和范德堡法，系统研究了不同溅射功率对薄膜的结构、形貌及光电特性的影响.结果表明，不同溅射功率对薄膜的光透射率影响不大，而对薄膜结晶和电学性能影响较大.XRD 表明薄膜为良好的 c 轴择优取向；可见光区(400~600 nm)平均透过率达到85％以上；在120 W 下沉积的薄膜电学性能达到了最佳.
关键词:
ZAO 薄膜
,
溅射功率
,
方块电阻
,
透过率
高松华
,
高立华
涂料工业
采用复合靶射频磁控溅射方法制备了ZnO/Ti02复合薄膜,对薄膜500℃退火处理2h.利用XRD和AFM对薄膜的晶体结构和表面微观形貌进行了表征,分析讨论了不同溅射时间下制备的薄膜的亲水性.结果表明:溅射时间为120 min时制备的薄膜经过退火处理后,具有锐钛矿和金红石混晶结构,而且具备最佳的亲水性和光致亲水性.
关键词:
溅射时间
,
退火
,
亲水性
,
光致亲水性
