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RZJ-304光刻胶压电雾化喷涂工艺及其应用

翟荣安 , 缪灿锋 , 魏顶 , 储成智 , 汝长海

电镀与涂饰

在自主搭建的压电雾化喷涂系统上,以RZJ-304正性光刻胶为研究对象,圆形抛光硅片为基材,研究了稀释体积比、预热温度以及喷涂层数对光刻胶薄膜平均厚度及均匀性的影响,并得到最佳工艺参数.以具有方形结构的抛光硅片为基材,分别进行压电雾化喷涂法和离心旋转法涂胶,并进行图案光刻,结果表明压电雾化喷涂法可以在...

关键词: 正性光刻胶 , 压电雾化喷涂 , 平均厚度 , 均匀性 , 抛光硅片 , 方形结构