孙乔玉
,
黄吉儿
,
C.Henry de Villeneuve
,
力虎林
,
P.Allongue
应用化学
doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2003.06.011
以界面电容分析法为主并结合XPS、AFM技术研究了醇类分子在Si(111)-H表面上形成的有机单分子膜的特性. 并探讨了嫁接反应中影响单分子膜特性的某些因素和单分子膜的稳定性及其对硅表面氧化的钝化作用. 在所选择的反应条件下,不同链长醇分子修饰的硅表面上,嫁接分子所占体积分数约为80%,平带电位约为-1.00 V(vs.SSE). 研究表明,这类膜稳定性和对硅表面氧化的钝化作用非常有限.
关键词:
Si(111)-H表面,单分子膜,醇类
