材料期刊网，材料期刊，材料类期刊，材料期刊投稿

硝酸铁浓度对石墨片上生长的碳纳米管场发射性能的影响

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2007.04.002

石墨衬底先分别浸泡于0.1～1 mol/L不同浓度的硝酸铁溶液后,采用低压化学气相沉积法于700℃在石墨衬底上生长碳纳米管薄膜.根据扫描电子显微镜照片及拉曼光谱分析碳纳米管的形貌和构成.碳纳米管的场发射性能的研究采用标准电流-电压测试.浸泡于0.6 mol/L硝酸铁溶液的石墨片上所生长的碳纳米管的场发射性能最佳.

关键词: 场发射 , 碳纳米管 , 硝酸铁浓度

低真空下射频磁控溅射法制备ITO薄膜

李晓冬 , 朱红兵 , 褚家宝 , 黄士勇 , 孙卓 , 陈奕卫 , 黄素梅

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2007.05.011

在低真空(2.3×10-3 Pa)下采用射频磁控溅射法制备了ITO薄膜.溅射温度200 ℃,溅射气氛为氩气和氧气的混合气,溅射靶材为90 %氧化铟、10 %氧化锡的陶瓷靶.用场发射扫描电子显微镜和X衍射仪研究了薄膜的显微结构, 用X射线光电子能谱表征了薄膜的成分.ITO薄膜在可见光范围内有较高的透射率(80 %～95 %).在低工作气压(1 Pa)下,氧气流量比率[O2/(O2+Ar)]越小,薄膜的透射率越高、导电性越好.在高工作气压(2 Pa)下,制备得到低质量、低透射率的无定形薄膜.

关键词: 氧化铟锡 , 薄膜 , 射频磁控溅射 , X射线光电子能谱