吴颜
,
王磊
,
黄丹曦
,
王旭东
,
吕永涛
,
黄松
,
贾世发
膜科学与技术
doi:10.16159/j.cnki.issn1007-8924.2016.04.007
利用牛血清蛋白(BSA)与FeCl3等配制的混合溶液模拟污水进行膜过滤实验,研究超滤膜中金属离子铁(Fe3+)与蛋白质(BSA)共存时对膜污染的影响.研究发现,在pH为3时,向BSA混合溶液中添加Fd+会在一定程度上影响其对膜的污染程度.BSA与Fe3+之间存在静电相互作用从而形成胶体态物质是其产生影响的原因之一,在相同BSA浓度下,随着FeCl3浓度的增加,当FeCl3质量浓度达到20 mg/L时,膜污染最为严重.而在相同BSA与FeCl3浓度条件下,随着pH的增加,当pH为7时,膜污染最严重,这是由于此时BSA带负电,被带正电的铁离子沉淀层所吸附,在膜表面形成BSA/铁的聚合物.
关键词:
超滤膜
,
铁离子
,
BSA
,
膜污染
,
AFM(原子力显微镜)
孔华
,
辛煜
,
黄松
,
宁兆元
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2004.03.011
在CF4/Ar的感应耦合等离子体中,用"法拉第筒"式的方法研究了SiO2刻蚀速率与不同离子入射角度之间的关系.在所施加的-20～300V射频偏压范围内,SiO2基片的归一化刻蚀速率(NER)呈现两种情况,当偏压值＜100V时,归一化刻蚀速率的大小与基片倾斜角度θ符合余弦曲线规律;当偏压值＞100V时,θ在15°～60°范围内,归一化刻蚀速率的大小在大于相应的余弦值,θ＞60°时归一化刻蚀速率快速下降,在90°附近SiO2表面出现聚合物沉积.θ＜60°时,SiO2的表面刻蚀主要决定于入射离子与基片表面间的能量转换,转换能量的大小深刻地影响着SiO2的刻蚀速率,同时也影响形成于基片表面的碳氟聚合物的去除速率.
关键词:
感应耦合等离子体
,
归一化刻蚀速率
,
法拉第筒
杜伟
,
程珊华
,
宁兆元
,
叶超
,
辛煜
,
黄松
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2003.02.003
使用光强标定的发射光谱( AOES)测量了 CHF3/C6H6混合气体的微波电子回旋共振( ECR) 放电等离子体中基团的分布状态.实验发现随着 CHF3流量的增加 ,成膜基团 CF、 CF2、 CH等的相 对密度增大 ,而刻蚀基团 F的密度也会增加 ,从而使得 a-C:F薄膜的沉积速率降低.同时红外 吸收谱 (IR)分析表明 ,在高 CHF3流量下沉积的 a-C:F薄膜中含有更高的 C-F键成分.可见 在 a-C:F薄膜的制备中 CHF3/(CHF3+ C6H6)流量比是重要的控制参量.
关键词:
电子回旋共振放电等离子体
,
化学气相沉积
,
氟化非晶碳薄膜
,
发射光谱
