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In0.53Ga0.47As/InP(001)薄膜表面重构的研究

周海月 , 赵振 , 郭祥 , 魏文喆 , 王一 , 黄梦雅 , 罗子江 , 丁召

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2015.18.013

通过扫描隧道显微镜(STM)以及反射式高能电子衍射(RHEED)对在不同As4等效束流压强(As4BEP)下生长的In0.53 Ga0.47 As薄膜表面重构进行研究.研究发现在两种As4 BEP条件下,样品表面重构都以(4×3)/(n×3)为主,并存在c(6×4)、β2(2×4)以及α2(2×4)...

关键词: STM , In0.53Ga0.47As薄膜 , As4BEP , 表面重构

不同应力下的InxGa1-xAs薄膜表面形貌

郭祥 , 王一 , 魏文喆 , 黄梦雅 , 赵振 , 王继红 , 胡明哲 , 丁召

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2015.02.005

利用分子束外延技术,通过反射式高能电子衍射仪实时监控InGaAs薄膜生长状况,在InAs(001)基片上生长In0.86Ga0.14As,在GaAs(001)基片上生长In0.14 Ga0.86As(厚度均为20原子层)单晶薄膜.采用扫描隧道显微镜对原位退火后的InGaAs样品进行扫描,发现不同组分...

关键词: MBE , InGaAs , 表面形貌

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