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Cu的腐蚀与缓蚀的光电化学研究

徐群杰 , 朱律均 , 齐航 , 曹为民 , 周国定

金属学报

用光电化学方法研究了Cu在不同浓度NaCl的硼酸--硼砂溶液中的腐蚀以及缓蚀剂聚天冬氨酸(PASP)对Cu的缓蚀作用. Cu在硼酸--硼砂缓冲溶液中, 表面的Cu2O膜为p型半导体. 当Cu所在的溶液中存在少量NaCl (小于0.5 g/L)时, Cu表面Cu2O膜会受轻微Cl-掺杂但不会改变半导体...

关键词: Cu , Photoelectrochemistry , Corrosion , Inhibitor , PASP

新型绿色缓蚀剂植酸的研究进展

徐群杰 , 齐航 , 周小晶 , 周国定

腐蚀与防护

对高效无毒缓蚀剂的研究是缓蚀剂的重要发展方向,植酸是一种从天然农作物中提取出来的绿色缓蚀剂,它可作为钢铁、铜、镁合金和铜合金的缓蚀荆,本文综述了有关植酸作为缓蚀剂的研究进展,提出了自组装技术和复配技术可作为植酸缓蚀剂发展的重要方向.

关键词: 绿色缓蚀剂 , 植酸 , 钢铁 , 铜和铜合金 , 自组装膜

Cu的腐蚀与缓蚀的光电化学研究

徐群杰 , 朱律均 , 齐航 , 曹为民 , 周国定

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2008.11.014

用光电化学方法研究了Cu在不同浓度NaCl的硼酸-硼砂溶液中的腐蚀以及缓蚀剂聚天冬氨酸(PASP)对Cu的缓蚀作用.Cu在硼酸-硼砂缓冲溶液中,表面的Cu2O膜为P型半导体.当Cu所在的溶液中存在少量NaCl(小于0.5 g/L)时,Cu表面Cu2O膜会受轻微Cl-掺杂但小会改变半导体性质;当溶液中...

关键词: Cu , 光电化学 , 腐蚀 , 缓蚀剂 , 聚天冬氨酸

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