谢振宇
,
龙春平
,
邓朝勇
,
胡文成
液晶与显示
doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2007.01.006
采用等离子增强型化学气相沉积法(RF-PECVD),源气体为NH3/SiH4/N2的混合气体,在330 ℃的温度下沉积a-SiNx:H薄膜.研究表明在反应气体流量一定的情况下,反应腔气压对薄膜沉积速率影响最大.采用Fourier红外吸收光谱技术分析a-SiNx:H薄膜中化学键结构,随着沉积速率的提高...
关键词:
氢化非晶氮化硅
,
沉积速率
,
禁带宽度
,
介电常数
,
反射系数
吴洪江
,
王威
,
龙春平
液晶与显示
doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2007.04.015
在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display)以及其他显示器件产品中,Mura是一种比较常见的不良现象,它可以直接影响到产品的画面品质.文章结合生产工艺的实际情况,采用MM,CD,EPM,SEM,FIB等检测设备,对一种Vertical B...
关键词:
TFT-LCD
,
Mura
,
抖动
,
耦合电容
,
画面品质
