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光激发荧光谱术分析Co-Cr-Al(Y)纳米涂层的氧化 I. Al2O3相的表征与相转变

彭晓 , 王福会 , D.R. , Clarke

金属学报

磁控溅射Co-Cr-Al(Y)纳米涂层在1000, 1100和1200℃氧化一定时间后, 用光激发荧光谱技术表征热生长的Al2O3相. 发现氧化层局部区域存在由非稳态相向稳态相的转变, 即: γ→θ→α; 其转变过程随温度升高显著加快, 并在1200℃下变昨不明显. 在相同温度下, Y明显减缓Al2O3相转变过程.

关键词: 光激发荧光谱术 , null , null