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Thermodynamic Analysis of Chemical Vapor Deposition of BCl3-NH3-SiCl4-H2-Ar System

LI Zan , CHENG Laifei , LIU Yongsheng , YE Fang

武汉理工大学学报-材料科学版(英文版) doi:10.1007/s11595-015-1256-9

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