林初城
,
朱慧颖
,
MASAO Matsuyama
,
王虎
,
黄利平
,
郑学斌
,
曾毅
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2013.13074
为了保证核能源的使用安全,对氚在第一壁材料表面的滞留数量以及深度进行定量表征非常重要.在本研究中,制备了一系列潜在的第一壁材料B4C/Mo涂层,并采用成像板(IP)和β射线激发X射线(BIxs)法对其表面的氚滞留情况进行了测定.IP图像表明,涂层表面吸附的氚含量遵循以下顺序:B4C＞BM 15＞BM...
关键词:
碳化硼/铝
,
第一壁材料
,
氚
,
X射线光谱法
