刘敏
,
王琼杰
,
徐玉福
,
SCHRAUBE Sebastian
,
胡献国
应用化学
doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2008.02.012
采用正丁基锂直接插入法制备出不同插层程度的LixMoS2,并考察了插层反应温度、反应物摩尔量比和反应时间等因素对插层效果的影响. 结果发现,控制反应物n-C4H9Li与MoS2的摩尔比为5～9、插层反应温度为30 ℃左右,在机械搅拌下反应36～48 h制得LixMoS2,在水中剥层后能制得不同插层程...
关键词:
插层
,
MoS2
,
摩擦学性能
