陈尔跃
,
杨晓超
,
徐娟
,
郭祥峰
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2014.10.004
在铜表面上的(Ni-P)-SiO2化学复合镀中,将Al2(SO4)、CoSO4和CrCl3作为纳米SiO2分散剂添加到镀液中.由分光光度计测定发现少量金属盐对纳米SiO2粒子在镀液中的分散稳定性均有一定程度提高.通过光电子能谱检测发现,Al2(SO4)3作为纳米SiO2分散剂的(Ni-P)-SiO2化学复合镀层中纳米SiO2沉积效果优于其他分散剂.0～8nm深度刻蚀检测表明镀层中纳米SiO2质量分数稳定.实验表明,以Al2(SO4)3作为分散剂最佳质量浓度为3.06～ 4.08 g/L.
关键词:
(Ni-P)-SiO2
,
化学复合镀
,
分散剂
,
纳米SiO2
,
镀层
