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化学复合镀(Ni-W-P)-Si3N4工艺研究

杜克勤 , 葛润洲 , 高玉周

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2004.02.003

采用化学复合镀方法,制备了(Ni-W-P)-Si3N4复合镀层;研究了镀液组成及工艺参数对镀层成分和沉积速率的影响;采用X-射线衍射分析了复合镀层表面相结构,并对复合镀层的耐蚀性及耐磨性进行了测试分析.试验结果表明:Si3N4纳米颗粒的加入影响了镀层的沉积速率,提高了沉积层的耐磨性;(Ni-W-P)-Si3N4复合沉积层仍具有与Ni-W-P沉积层相近的优异性能.

关键词: 化学复合镀 , (Ni-W-P)-Si3N4复合镀层 , 相结构

电沉积(Ni-W-P)-Si3N4复合镀层及性能研究

宋振兴 , 姚素薇 , 王宏智 , 张卫国

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2007.02.005

采用电沉积方法,在Ni-W-P合金中复合Si3N4微粒,获得(Ni-W-P)-Si3N4复合镀层.研究了镀液中Si3N4质量浓度、电流密度以及搅拌速度等工艺条件对复合镀层中Si3N4质量分数的影响.X-射线衍射、扫描电子显微镜测试结果表明:Si3N4微粒在镀层中均匀分布,与Ni-W-P合金各自在特定的角度出现衍射特征峰,彼此之间互不干扰.随着镀层中Si3N4质量分数的增加,镀层的性能均按照一定的规律发生变化.当Si3N4的质量分数为最大值10.3%时,镀层性能在各组实验比较中均最优,耐磨性能最好.

关键词: 电沉积 , (Ni-W-P)-Si3N4复合镀层 , 耐磨性

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