张健
,
韩继龙
,
郭策安
,
卢旭东
,
金浩
,
郭秋萍
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2015.13.030
利用电弧离子镀技术,在炮钢表面沉积TiAlN和 TiAlYN 两种薄膜,研究添加1％(原子分数)Y对(Ti,Al)N薄膜氧化性能的影响。两种沉积薄膜的样品在空气中850℃下氧化10 h,用 SEM、EDAX和XRD分别分析两种薄膜的形貌、成分及相组成。结果表明,在空气中850℃下氧化10 h 后,两...
关键词:
炮钢
,
Y
,
(Ti,Al)N
,
电弧离子镀
,
氧化
赵升升
材料科学与工程学报
利用电弧离子镀技术在不锈钢基体上制备了(Ti,A1)N涂层,研究了脉冲偏压对涂层残余应力沿层深分布及相关力学性能的影响.结果表明,(Ti,Al)N涂层残余应力沿层深呈“钟罩型”分布,且随脉冲偏压的增大应力值明显增加；通过对涂层生长结构及微观成分分析,初步探讨了应力分布机理.随脉冲偏压的增加,涂层硬度...
关键词:
(Ti,Al)N
,
硬质涂层
,
应力分布
,
脉冲偏压
王永康
,
熊仁章
,
雷廷权
,
夏立芳
,
李炳生
材料工程
doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2002.08.007
通过不同Al含量的Ti-Al粉末冶金靶,采用多弧离子镀技术制备了Ti1-XAlXN涂层.用SEM、XRD、GAXRD以及XTEM等手段研究了Al元素对涂层组织结构的影响.研究表明,TiAlN涂层呈柱状多晶组织,(Ti,Al)N为涂层的主要组成相;随着Al含量的增加,涂层中的(Ti,Al)N相减少,且...
关键词:
多弧离子镀
,
Ti1-XAlXN涂层
,
组织结构
,
(Ti,Al)N
范永中
,
张淑娟
,
涂金伟
,
孙霞
,
刘芳
,
李明升
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2011.00292
分别在未施加偏压和施加-100V偏压条件下,利用磁控溅射技术在压气机叶片用1Cr11Ni2W2MoV热强不锈钢基体上沉积了Ti0.3Al0.7N和Ti0.3gAl0.55Si0.05Y0.01N硬质涂层.实验结果表明,施加偏压及Si和Y掺杂明显改变了涂层的相结构,提高了涂层致密度,施加-100 V偏...
关键词:
磁控溅射
,
(Ti,Al)N
,
Si和Y掺杂
,
抗氧化性能
,
硬度
,
结合力
赵升升
,
程毓
,
常正凯
,
王铁钢
,
孙超
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2011.00504
利用电弧离子镀技术在不锈钢基体上制备了(Ti,Al)N涂层,研究了N2分压改变对涂层残余应力沿层深分布及相关力学性能的影响.结果表明,低N2分压下,(Ti,Al)N涂层残余应力沿层深分布较均匀,随N2分压的增加,涂层应力沿层深呈“钟罩型”分布,且全膜厚的应力值也明显增大；通过对涂层生长结构及微观成分...
关键词:
(Ti,Al)N
,
硬质涂层
,
应力分布
,
调整应力
,
N2分压
Ying Yang
材料科学技术（英文）
(Ti,Al)N films were fabricated by arc ion plating (AIP) and then annealed within a range of temperatures from 200 to 500°C for 30 min in vacuum. The results indicate that the average residual stresses decrease slightly from −5.84 to −4.98 GPa with increasing annealing temperature. The stre...
关键词:
Arc ion plating
Ying Yang
材料科学技术（英文）
(Ti,Al)N films were fabricated by arc ion plating (AIP) and then annealed within a range of temperatures from 200 to 500°C for 30 min in vacuum. The results indicate that the average residual stresses decrease slightly from −5.84 to −4.98 GPa with increasing annealing temperature. The stre...
关键词:
Arc ion plating
