胡小草
,
刁训刚
,
郝雷
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2008.03.009
利用磁控溅射在柔性基底上制备了大面积的TiO2/Ag/Ti/TiO2多层膜, 其中TiO2和Ag分别采用中频反应溅射和直流磁控溅射制备, 同时采用Ti作为过渡层, 有效地防止了在溅射最外层TiO2时对Ag膜连续性的破坏.利用紫外可见分光光度计, 四探针电阻仪, 扫描电子显微镜, 红外比辐射率测量仪对薄膜的表面形貌和光电特性进行了表征, 重点研究了不同膜层厚度对多层膜可见光透过率, 方块电阻和红外发射率的影响.结果表明, Ag层厚度对多层膜的方块电阻和红外发射率有决定性的影响, 而TiO2层厚度对此影响不大.
关键词:
大面积
,
柔性基底
,
中频反应溅射
,
Ti过渡层
,
红外发射率
付志强
,
王成彪
,
周家斌
,
高功申
,
王伟
,
彭志坚
,
于翔
稀有金属材料与工程
探讨Ni-AlN复合膜和渐变Ni-AlN选择性吸收涂层的中频溅射技术.结果表明:随着镍靶电流增加和铝靶电流减小,铝靶溅射由金属模式向反应模式转变对应的临界氮气流量降低,制备的Ni-AlN复合膜中镍含量增加,铝含量和氮/铝原子比减少,更容易产生游离铝.随着单层复合材料吸收层沉积时间的增加,Ni-AlN选择性吸收涂层由梯度渐变结构变成多层膜结构,在可见光范围的反射率降低;当单层复合材料吸收层沉积时间为10 min时,Ni-AlN选择性涂层在可见光范围的反射率约为10%,具有良好的光谱选择性.
关键词:
Ni-AlN
,
复合膜
,
选择性吸收涂层
,
中频反应溅射
汪振中
,
褚夫同
,
刘兴钊
功能材料
通过中频磁控反应溅射,在Si(100)衬底上沉积AlN薄膜,并用X射线衍射、扫描电子显微镜和Raman光谱表征AlN薄膜的微观特征.实验中,研究了氮分压、靶基距、溅射功率对AlN薄膜质量的影响,并优化参数制备高质量的c轴取向的AlN薄膜.结果表明,提高溅射功率、降低靶基距以及降低氮分压,有利于c轴择优取向AlN的生长.在优化条件下制备的AlN薄膜具有高度c轴取向,(002)摇摆曲线的半高宽为5.7°,Raman光谱E2(high)声子峰的FWHM为13.8cm-1.
关键词:
AlN
,
中频反应溅射
,
Raman光谱
