王菊琳
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许淳淳
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于淼
中国腐蚀与防护学报
青铜在模拟环境介质中的循环伏安实验及XRD测试结果表明，氧化过程主要为生成有害锈CuCl的过程，还原过程主要为CuCl还原成纯铜晶粒的过程，并且反应电流较大，对青铜基体的破坏性较大.运用高性能二次离子质谱(SIMS)观测到不同腐蚀电位下青铜表面腐蚀产物中均含有Cu、Sn、Cl、O、C、S元素，阴离子相对含量由大到小为Cl、O、C、S；腐蚀产物层由表及里Cu/Sn值始终小于合金中Cu/Sn，并且Cu离子含量基本不变，Sn离子含量有起伏，Cl、O离子含量有所下降.
关键词:
二次离子质谱
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archaeological bronze
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environment
,
corrosion
岳瑞峰
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王佑祥
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陈春华
硅酸盐通报
doi:10.3969/j.issn.1001-1625.1999.05.003
利用二次离子质谱(SIMS)和X射线衍射(XRD)研究了用于电子封装的以Dy2O3、CaO为添加剂的AlN和以堇青石、BaCO3为添加剂的莫来石陶瓷衬底的物相组成和表面成分,尤其是表面杂质,并利用SIMS尝试探讨了AlN表面热氧化问题.结果表明,AlN和莫来石陶瓷表面不同程度地存在Li、C、F、Na、K、Cl、Ti、Rb等杂质元素的污染;AlN表面存在富O层,在空气中经过850℃10分钟退火后,富O层明显展宽.
关键词:
氮化铝
,
莫来石
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二次离子质谱
,
成分分析
刘文庆
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周邦新
,
李强
,
姚美意
稀有金属材料与工程
为了解释锆合金在LiOH水溶液中耐腐蚀性能降低的原因,将3组粉状Zr-4合金样品分别放在500℃空气中、500℃过热蒸汽中和350℃的0.1 mol/LLiOH水溶液中进行腐蚀,当氧化膜厚度约为1.5 μm时,用XRD分析这3组样品的晶体结构.将一片状Zr-4合金样品在350℃的0.04 mol/L LiOH水溶液中腐蚀2 d,用SIMS检测Li+和OH-在氧化膜剖面上的分布.根据实验结果提出OH-在氧化膜中比O-2扩散速度快,使t-ZrO2加速向m-ZrO2转变,导致Zr-4合金腐蚀速度加快.
关键词:
Zr-4合金
,
腐蚀性能
,
X射线衍射
,
二次离子质谱
周邦新
,
刘文庆
,
李强
,
姚美意
材料研究学报
doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2004.03.001
在不同水化学条件下的高压釜中研究了Zr-4合金在LiOH水溶液中的耐腐蚀性能.结果表明,不同的腐蚀介质对氧化膜内的压应力和t-ZrO2的含量的影响有很大不同;Zr-4合金在LiOH或KOH水溶液中腐蚀时,Li+比K+进入氧化膜深而且浓度高;在LiOH水溶液中腐蚀时,氧化膜中OH-的浓度比在KOH水溶液中高.锆合金在LiOH水溶液中腐蚀时,氧化膜的生长主要是通过OH-从合金的表面向内扩散,与锆反应生成氧化锆和原子氢.Li+半径较小,容易进入氧化膜,因此较多的OH-进入氧化膜的深处,并与t-ZrO2中的氧空位反应,使t-ZrO2向m-ZrO2转变.这导致氧化膜出现裂纹,使氧化膜中的压应力松弛,降低氧化膜的保护能力,提高了锆合金的腐蚀速率.
关键词:
材料失效与保护
,
Zr-4合金
,
耐腐蚀性能
,
二次离子质谱
,
X射线衍射
,
应力
王海丽
,
王镇波
,
卢柯
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2011.00687
二次离子质谱仪测量的元素深度分布曲线受离子注入引发的原子混合、坑壁、晶体取向以及表面粗糙度等因素的影响,使得实测曲线偏离真实元素分布曲线.通过测量扩散退火前溶质原子在样品中的分布曲线,即“零曲线”,可以表征各种因素的综合效果.本文提出一种使用Fourier级数解卷积的方法有效地从实测曲线中分离“零曲线”的影响,得到元素的真实分布曲线的方法.并利用此法分析了Zn在租晶Cu及用动态塑性变形方法制备的纳米结构纯Cu中扩散的浓度-深度分布曲线.
关键词:
二次离子质谱
,
深度分析
,
零曲线
,
扩散
,
动态塑性变形
刘文庆
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李强
,
周邦新
,
姚美意
稀有金属材料与工程
将Zr-4合金样品分别放在盛有350℃,0.1 mol/L的LiOH和KOH水溶液的高压釜中进行腐蚀,当2种样品的氧化膜厚度相同时,用二次离子质谱仪(SIMS)测量Li+,K+和OH在氧化膜剖面上的浓度分布,发现进入氧化膜的Li+比k+深而且记数强度高,同时在LiOH水溶液中腐蚀的样品,其氧化膜中OH-的强度也比在KOH水溶液中腐蚀的样品高,这表明OH-在氧化膜中的分布和扩散与其对应的阳离子有关.根据以上结果讨论了Zr-4合金在LiOH水溶液中耐腐蚀性能降低的原因.
关键词:
Zr-4合金
,
二次离子质谱
,
耐腐蚀性能:水化学
