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插层Bi对NiFe/FeMn双层膜交换偏置场的影响及其XPS分析

李明华 , 于广华 , 朱逢吾 , 曾德长 , 赖武彦

功能材料

在Ta/Cu/NiFe/FeMn/Ta薄膜中,我们曾发现Cu在NiFe层的表面偏聚导致NiFe/FeMn薄膜的交换偏置场降低.为了抑制Cu的表面偏聚,我们在Ta/Cu/NiFe/FeMn/Ta薄膜中在Cu/NiFe界面沉积Bi插层.实验发现,沉积适当厚度的Bi插层可以将NiFe/FeMn双层膜的交换偏置场提高1倍.XPS分析表明,在Cu/NiFe界面沉积的插层Bi有效地抑制了Cu在NiFe表面的偏聚,提高了交换偏置场.

关键词: NiFe/FeMn , 交换偏置场Hex , 表面偏聚 , Bi插层

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