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硅基GaN外延晶体学位相关系和生长机理研究

叶志镇 , 张昊翔 , 赵炳辉 , 王宇 , 刘红学

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2000.04.001

采用反应蒸发法在提高了缓冲层的生长温度,通过对Si基上GaN样品缓冲层区域的高分辨透射电镜像(HRTEM)和界面区域的选区电子衍射(SAED)分析的基础上,提出了本系统GaN外延的晶体学位相关系和生长机理.GaN与Si衬底之间存在着下列的晶体学位相关系:GaN<0001>∥Si<111>,GaN<110>∥Si<110>.GaN外延生长首先在硅衬底上形成GaN晶核,生长出GaN多晶缓冲层,GaN多晶层在随后的高温保温过程中重新结晶为择优取向的GaN微单晶层,最后以这种微单晶层为模板进行晶体大面积的二维生长.同时还发现较高的缓冲层温度也明显提高了GaN外延层的结晶质量.

关键词: 氮化镓 , 硅基 , 外延 , 位相关系 , 生长机理

固溶时效Mg-4Y-3Nd合金析出相与基体的微观结构

杨晓红 , 彭丽梅 , 杨晨辉 , 贾波 , 安建

材料热处理学报

用XRD衍射和透射高分辨HTEM方法分析Mg-4Y-3Nd合金在固溶处理525℃×8 h、时效温度250℃、时效时间16 h状态下的显微组织、析出相的点阵结构和基体点阵常数变化.结果表明:经过固溶时效的Mg-4Y-3Nd合金的显微组织由α-Mg固溶体、析出相Mg24Y5、Mg41Nd5和Mg14Nd2Y组成.析出相在晶内和晶界同时析出,晶内析出相形状为块状或短杆状,呈弥散分布,晶界上析出相呈三角形为链状分布,时效析出相Mg14Nd2Y与基体为半共格界面位相关系.随着析出相的生成,基体的点阵常数变大,同一晶面的衍射角(2θ)减小,晶面间距增大.

关键词: Mg-4Y-3Nd合金 , 固溶时效 , 析出相 , 位相关系

室温累积叠轧Mg/Al多层复合板材的界面表征

常海 , 郑明毅 , 甘为民

金属学报 doi:10.11900/0412.1961.2016.00168

通过室温累积叠轧技术制备了Mg/Al多层复合板材,借助SEM、EDS、TEM和同步辐射CT形貌观察等先进表征手段对累积叠轧Mg/Al金属复合板材界面结合进行表征,揭示累积叠轧Mg/Al金属复合板材界面宏观结合状态以及微观界面结构。结果表明,Mg/Al复合板材界面总体上结合良好,没有明显孔洞和开裂,但板材内部仍然存在一些孔洞和局部微小裂纹。3次循环后Mg/Al界面处形成了厚度为150 nm的Mg17Al12层。Mg和Mg17Al12之间存在一种确定的晶体学位相关系[11?1?]Mg17Al12//[12?10]Mg110Mg17Al12//(1?011?)Mg,而Mg17Al12和Al之间是否有位相关系并不明显。

关键词: 累积叠轧 , Mg/Al多层复合板材 , 界面宏观结合 , 界面结构 , 位相关系

Zr-4合金中氢化物析出的TEM研究

窦娜娜 , 宋西平 , 杨云 , 赵超 , 李如峰

稀有金属

利用透射电镜(TEM)研究了Zr-4合金吸氢后析出氢化物的类型、形貌及其位相关系.结果表明,随着吸氢量的增加,Zr-4合金中依次析出了δ-ZrH1.6及ε-ZrH1.8氢化物.δ氢化物主要以板条状从α-Zr基体上析出,二者的取向关系为(0001)α//(001)δ,[2(1)(1)0]α//[110]δ.ε氢化物以针状形貌从δ氢化物中析出,析出的ε氢化物的密排面((1)1(1))与δ氢化物的密排面((1)1(1))平行,二者的取向关系为((1)1(1))δ//((1)1(1))ε,[(1)12]δ//[011]ε.高分辨观察进一步表明,δ-ZrH1.6及ε-ZrH1.8氢化物的晶格点阵均出现了严重的扭曲变形,说明相变存在较大的应力集中.

关键词: Zr-4合金 , 氢化物 , TEM , 位相关系

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