李瑞
,
樊志琴
,
张丽伟
,
蔡根旺
,
杨培霞
硅酸盐通报
采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法,在玻璃衬底上不同的氢稀释比下低温制备了微晶硅(μc-Si:H)薄膜.利用拉曼(Raman)散射谱研究显示当H2稀释比从95%升高到99%,所得硅膜晶粒大小从2.98 nm增加8.79 nm,晶化率从24%增加到91%;暗电导测试结果从1.32×10-6scm-1增加到7.24×10-3scm-1;沉积速率却大大降低.沉积出的薄膜在进行高温炉退火后,扫描电镜(SEM)显示样品表面孔洞变大增多,推测是氢逸出所致.
关键词:
微晶硅薄膜
,
PECVD
,
低温沉积
,
退火
于威
,
王建涛
,
李云
,
郭少刚
,
朱海荣
,
傅广生
人工晶体学报
以Ar和H2为溅射气体,采用Si和SiO2双靶活性溅射技术实现了镶嵌纳米晶硅(nc-Si)的富硅氧化硅(SiOx)薄膜的300℃低温生长,并分析了氢气掺入对薄膜微观结构及键合特性的影响.结果表明,氢气流量比的增加导致纳米硅粒子尺寸增加,而生长速率逐渐减小.薄膜中Si-O键合结构以Si(O4)键为主,随H2流量比的增加,Si-O4-nSin(n=0,1)键密度减小,Si-O4-nSin(n=2,3)和SiH2键密度持续增加,而所对应Si-H键密度呈现先减小后增加趋势,该结果可解释为等离子体内氢原子对反应前驱物中氧的去除效应增强和氢原子与表面氧的解吸附反应几率的增加.
关键词:
纳米晶硅
,
富硅氧化硅
,
低温沉积
,
微结构
吴传贵
,
刘兴钊
,
张万里
,
李言荣
功能材料
利用传统陶瓷工艺制备出BST(65/35)倒筒靶,采用射频溅射法沉积薄膜.开展了对Pt/Ti/SiO2/Si基底热处理工艺与BST同质缓冲层研究,总结出了可以确保基底界面性能良好、BST薄膜结构致密的工艺方法.介电性能测试表明:BST薄膜的介电常数约为60～70,介电损耗为1.5%～2.5%,居里温度为284K,介电温度系数(TCD)为0.5%.漏电流测试表明:在1MV/cm电场下,漏电流密度为1.9×10-6A/cm2.
关键词:
BST薄膜
,
射频溅射
,
低温沉积
,
红外探测器
唐武
,
范芸
,
李海霞
,
翁小龙
,
邓龙江
功能材料
通过射频磁控溅射方法,在柔性PET衬底上低温沉积电致变色WOx薄膜.利用X射线衍射(XRD)、紫外-可见光分光光度计、X射线光电子能谱(XPS)分析所制备薄膜的微观结构、透光率、O元素的结合状态.结果表明,各氧分量下制备的WOx薄膜均为非晶态;氧分量0时制备的薄膜着、退色态透光率变化范围达到25%左右,具有较好的电致变色性能;XPS分析表明氧分量8%时氧空位含量最低,随着氧分量的继续增大,氧空位含量也增大.
关键词:
WOx薄膜
,
低温沉积
,
电致变色
,
射频磁控溅射
高晓明
,
孙嘉奕
,
胡明
,
翁立军
,
伏彦龙
,
杨军
,
谭洪根
机械工程材料
采用多弧离子镀方法在低温(166 K)、室温(300 K)以及不同氩气压力(0.2～0.8 Pa)条件下沉积钛薄膜,通过X射线衍射仪、原子力显微镜、显微硬度计和划痕试验机等对薄膜的物相结构和性能进行了研究.结果表明:不同工艺条件下沉积的钛薄膜均为密排六方纳米晶ω-Ti和α-Ti的两相复合相结构;在低温、低氩气压条件下沉积的钛薄膜具有较高含量的硬脆ω相,因而具有较高的显微硬度,同时还表现出良好的膜基结合性能,比较适宜用作固体润滑薄膜与钢基体间的过渡层,以改善其膜基结合性能和承载能力.
关键词:
低温沉积
,
钛薄膜
,
物相结构
,
性能
黄美东
,
孙超
,
林国强
,
董闯
,
闻立时
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2003.05.010
利用直流和脉冲偏压电弧离子镀技术沉积TiN硬质薄膜,研究了不同偏压下基体的沉积温度、薄膜的表面形貌及力学性能.结果表明,与直流偏压相比,脉冲偏压可以明显降低基体的沉积温度,大大减少薄膜表面的大颗粒污染,改善表面形貌,而薄膜的综合力学性能仍保持良好,说明利用脉冲偏压技术是实现电弧离子镀低温沉积的有效途径.
关键词:
电弧离子镀
,
低温沉积
,
脉冲偏压
,
TiN薄膜
李铸国
,
三宅正司
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2009.00480
采用诱导型耦合等离子体辅助直流磁控溅射法在石英玻璃片上反应沉积TiO_2薄膜,通过X射线衍射(XRD),透射电子显微镜(TEM)和紫外可见光谱(UV-Vis)对薄膜特性进行表征.结果表明,叠加诱导型耦合等离子体和局部富氧增加了等离子体的反应活性,在金属溅射模式和低于200℃的沉积条件下,制备了高质量的锐钛矿相TiO_2薄膜;该薄膜在550 nm处的折射率和消光系数分别为2.51和7.8×10~(-4)
关键词:
TiO_2薄膜
,
磁控溅射
,
金属溅射模式
,
低温沉积
,
折射率
高晓明
,
孙嘉奕
,
胡明
,
翁立军
,
伏彦龙
,
杨军
,
谭洪根
,
张良俊
机械工程材料
采用多弧离子镀方法在低温(173 K)下沉积了银和银铜薄膜,通过地面原子氧模拟试验系统考察了薄膜的耐原子氧性能,通过X射线衍射仪(XRD)和原子力显微镜(AFM)对薄膜的结构和耐原子氧性能进行了分析,并与室温下沉积的银薄膜进行了比较.结果表明:低温沉积和铜元素合金化,可减小银薄膜的晶粒尺寸,并提高其结构致密性;低温沉积的银铜薄膜表现出细密的结构,这有利于抑制原子氧对薄膜的氧化,从而使其比室温及低温下沉积的银薄膜具有更好的耐原子氧性能.
关键词:
低温沉积
,
银铜薄膜
,
耐原子氧性能
黄美东
,
孙超
金属学报
利用直流和脉冲偏压电弧离子镀技术沉积TiN 硬质薄膜,研究了不同偏压下基体的沉积温度、薄膜的表面形貌及力学性能。结果表明，与直流偏压相比，脉冲偏压可以明显降低基体的沉积温度，大大减少薄膜表面的大颗粒污染，改善表面形貌，而薄膜的综合力学性能仍保持良好，说明利用脉冲偏压技术是实现电弧离子镀低温沉积的有效途径。
关键词:
电弧离子镀
,
null
,
null
