杨桂林
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何华强
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蒋广霞
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吴浩
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袁来锁
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蔡益明
材料导报
比较系统地介绍了国家863计划项目"超高光效复合稀土卤化物灯用发光材料的研究”的最终目标、计划任务要求、全面完成合同研究计划的情况、取得的重要科技成果以及产业化建设情况,并对该项目产生的经济效益、社会环境效益、成果的推广应用前景以及将来的工作重点进行了论述.
关键词:
金属卤化物灯
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发光材料
,
光源
,
稀土
杨向荣
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张明
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王晓临
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曹万强
材料导报
大尺寸、细线宽、高精度、高效率、低成本成为IC产品发展的趋势,随着集成度的提高,芯片制造中最关键的制造工艺--光刻技术也面临着愈来愈多的难题.新兴的193 nm浸入式技术、157 nm极短紫外光刻(Euv)、电子束投影光刻(EPL)、纳米压印光刻等技术将是解决这些问题的关键.介绍了193nm浸入式技术、157nm光刻技术、电子束投影(EPL)光刻技术以及纳米压印光刻技术.指出纳米压印光刻技术具有生产效率高、成本低、工艺过程简单等优点,能实现分辨率达5 nm以下的水平,是最具发展前途的下一代光刻技术之一.
关键词:
光刻
,
光源
,
曝光