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光净化材料的应用研究

陈金爱

合成材料老化与应用 doi:10.3969/j.issn.1671-5381.2006.02.005

主要通过甲醛和苯被光净化材料分解的测定,阐述光净化材料的选择、光源波长、光源功率、光源距离等因素对净化效果的影响,同时还给出实际模拟装置试验的测定结果.认为不同光净化材料分解有害物质的效果不同,选择分解性能好的光净化材料合理制造装置,可以有效地加快细菌和有机污染物的分解.

关键词: 光净化 , 光源 , 甲醛 , , 装置

国内外实验室光源加速老化试验设备

庄海仁 , 何文生 , 林玛丽

合成材料老化与应用 doi:10.3969/j.issn.1671-5381.2007.04.013

介绍国内外实验室光源老化试验设备中最常使用的光源的特征、发展及设备的结构特点,并以户外太阳光源相似程度的角度,分析了碳弧灯、氙弧灯、荧光紫外灯及金属卤灯的优缺点.

关键词: 老化试验设备 , 光源

超高光效复合稀土卤化物灯用发光材料的研究

杨桂林 , 何华强 , 蒋广霞 , 吴浩 , 袁来锁 , 蔡益明

材料导报

比较系统地介绍了国家863计划项目"超高光效复合稀土卤化物灯用发光材料的研究”的最终目标、计划任务要求、全面完成合同研究计划的情况、取得的重要科技成果以及产业化建设情况,并对该项目产生的经济效益、社会环境效益、成果的推广应用前景以及将来的工作重点进行了论述.

关键词: 金属卤化物灯 , 发光材料 , 光源 , 稀土

新型光刻技术的现状与进展

杨向荣 , 张明 , 王晓临 , 曹万强

材料导报

大尺寸、细线宽、高精度、高效率、低成本成为IC产品发展的趋势,随着集成度的提高,芯片制造中最关键的制造工艺--光刻技术也面临着愈来愈多的难题.新兴的193 nm浸入式技术、157 nm极短紫外光刻(Euv)、电子束投影光刻(EPL)、纳米压印光刻等技术将是解决这些问题的关键.介绍了193nm浸入式技术、157nm光刻技术、电子束投影(EPL)光刻技术以及纳米压印光刻技术.指出纳米压印光刻技术具有生产效率高、成本低、工艺过程简单等优点,能实现分辨率达5 nm以下的水平,是最具发展前途的下一代光刻技术之一.

关键词: 光刻 , 光源 , 曝光

白色LED照明光源

方志烈 , 叶其春 , 李学勇

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2000.04.027

报道了由黄、蓝二色发光二极管芯片组成的白色发光二极管的研制、结构和性能.

关键词: 发光二极管 , 白色发光二极管 , 光源

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