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光激发荧光谱术分析Co-Cr-Al(Y)纳米涂层的氧化Ⅰ.Al2O3相的表征与相转变

彭晓 , 王福会 , D.R.Clarke

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2003.10.009

磁控溅射Co-Cr-Al(Y)纳米涂层在1000,1100和1200℃氧化一定时间后,用光激发荧光谱技术表征热生长的Al2O3相.发现氧化层局部区域存在由非稳态相向稳态相的转变,即:γ→θ→α;其转变过程随温度升高显著加快,并在1200℃下变得不明显.在相同温度下,Y明显减缓A12O3相转变过程.

关键词: 光激发荧光谱术,A12O3,相转变,Co-Cr-Al(Y)纳米涂层,磁控溅射

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