钟志有
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张腾
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顾锦华
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孙奉娄
人工晶体学报
采用直流磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了掺锡氧化铟(ITO)透明导电薄膜,通过XRD、XPS、四探针仪和分光光度计等测试方法,研究了沉积速率对ITO薄膜微观结构和光电性能的影响.实验结果表明:ITO样品为具有(222)择优取向的立方锰铁矿结构,其晶体结构和光电性能明显受到沉积速率的影响.当沉积速率为4 nm/min时,所制备的ITO薄膜具有最大的晶粒尺寸(32.5 nm)、最低的电阻率(1.1×10-3Ω·cm)、最高的可见光区平均透过率(86.4％)和最大的优良指数(7.9×102 S·cm-1),其光电综合性能最佳.同时采用Tauc法则计算了ITO薄膜的光学能隙,结果显示沉积速率增大时,ITO薄膜的光学能隙单调减小.
关键词:
透明导电薄膜
,
掺锡氧化铟
,
晶体结构
,
光电学性能
孙宜华
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王海林
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陈剑
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方亮
,
王磊
中国有色金属学报(英文版)
doi:10.1016/S1003-6326(16)64275-9
采用高致密度靶材在室温条件下玻璃衬底上 RF 磁控溅射制备铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜。用 X 射线衍射仪、冷场发射扫描电子显微镜、紫外可见光分光光度计、四探针测试仪和霍尔测试仪分析表征薄膜的显微组织、表面形貌和光电学性能。结果表明，所制备的薄膜均为多晶六方纤锌矿结构，溅射功率对 AZO 薄膜的光电学性能，尤其是电学性能有重要影响。不同溅射功率下薄膜可见光平均透过率均大于85%，当溅射功率为200 W 时，获得最小电阻率4.5×10?4Ω·cm 和87.1%的透过率。AZO 薄膜禁带宽度随溅射功率不同在3.48~3.68 eV 范围内变化。
关键词:
AZO薄膜
,
显微组织
,
光电学性能
,
RF磁控溅射
